资料摘要
资料下载介绍了以Thermo三区控温管式炉HTF55347C为核心的CVD系统的组成。应用：CVD真空气氛管式炉设计用于材料沉积之用，广泛适用高、中、低温CVD工艺，例如：碳纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长等等；也可适用于金属材料的扩展焊接以及真空或保护气氛下热处理。
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