新型激光直写无掩模光刻机在孚光精仪发布问世

孚光精仪（中国）有限公司

孚光精仪在上海，天津同时发布一款新型激光直写式雾无掩模光刻系统。

这款无掩模光刻机是一款高精度的激光直写光刻机。这套无掩模光刻机具有无掩模技术的便利，大大提高影印和新产品研发的效率，节省时间，是全球领先的无掩模光刻系统。

这款激光直写无掩模光刻机直接用375nm或405nm紫外激光把图形写到光胶衬底上。

激光直写无掩模光刻系统特色

尺寸：925x925x1600mm

内置计算机控制接口

激光光源：375nm或405nm

视频辅助定位系统

自动聚焦设置

激光直写无掩模光刻机参数

线性写取速度：>500mm/s

位移台分辨率：100nm

重复精度： 100nm

晶圆写取面积：1—6英寸

衬底厚度：250微米-10毫米

激光点大小：1-100微米

准直精度：500nm

光刻机.JPG

光刻机应用.JPG

Email: info@felles.cn 或 felleschina@outlook.com
Web: www.felles.cn                    （激光光学精密仪器官网）
         www.felles.cc                     （综合性尖端测试仪器官网）
   www.f-lab.cn     （综合性实验室仪器官网）
Tel: 021-51300728,   4006-118-227

阅读1689次

关注