X-ray应用薄膜窗口

X-ray应用薄膜窗口

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品牌: EMS
货号: 4583720
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X-ray应用薄膜窗口(X-Ray Windows)

有两种薄膜,低应力lpcvd氮化硅膜具很强机械强度,适合高温和差压环境;G-FLAT™氧化硅膜平坦无褶皱,非常适合x射线显微镜和需要无氮气背景的分析。这些薄膜窗口是X射线显微镜和x射线光谱学技术的理想衬底,经过等离子清洗,无有机污染。平坦、均匀沉积的薄膜具有低场到场可变性和高x射线透射性。

G-FLAT™氧化硅膜窗口,适合生物成像研究,具有玻璃状亲水表面。外框硅材质,外框大小5*5mm,框厚310μm,膜厚度300nm。无褶皱,与超高真空(UHV)应用兼容。

LPCVD氮化硅膜窗口,外框大小5*5mm,框厚320μm,200 MP 低应力无孔氮化硅。

产品信息:

货号

产品描述

窗口(Sq.)

膜厚

规格

76042-10

G-FLAT™ SiO   X-Ray Window

500μm

100nm

20/pk

76042-11

G-FLAT™ SiO   X-Ray Window

500μm

300nm

20/pk

76042-12

Silicon Nitride   X-Ray Window

500μm

50nm

20/pk

76042-13

Silicon Nitride   X-Ray Window

1000μm

50nm

20/pk

76042-14

Silicon Nitride   X-Ray Window

500μm

100nm

20/pk

76042-15

Silicon Nitride   X-Ray Window

1000μm

100nm

20/pk

76042-16

Silicon Nitride   X-Ray Window

1500μm

200nm

20/pk

76042-17

Silicon Nitride   X-Ray Window

2500μm

200nm

20/pk

 


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