FE-SPL高分辨场发射扫描探针光刻系统

FE-SPL高分辨场发射扫描探针光刻系统

参考价:¥200万 - 300万
型号: SPL
产地: 德国
品牌: nano analytik
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    德国Nano analytik公司成立于2010年4月,技术源自德国伊尔梅瑙科技大学,是德国耶拿分析仪器股份有限公司分支企业,公司的核心竞争力在于传感器、微系统和控制技术,公司宗旨是让纳米分析技术快速简易化,在保证科研严谨性的同时提高科研效率。

     德国Nano analytik研发了一款基于新型扫描探针的超高分辨扫描探针光刻SPL系统。可在大气环境下,高经济效益、快速直写10纳米以下结构和制备纳米级器件。该系统的闭环回路可实现使用同一扫描探针对纳米结构的成像、定位、检测和操纵。

      该高分辨场发射扫描探针光刻FE-SPL系统广泛应用于纳米级微电子器件制备,纳米操控,多工艺套刻,纳米流体控制,超材料研究,纳米光电器件,表面等离子激元,高分辨掩膜板或纳米压印模板的制备工作。


                  

                   

                   

                  

                   

                   




溢鑫科创科技集团为您提供nano analytikFE-SPL高分辨场发射扫描探针光刻系统,nano analytikSPL产地为德国,属于进口电子束曝光机,除了FE-SPL高分辨场发射扫描探针光刻系统的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供无掩模激光直写光刻机、FemtoLAB飞秒激光微纳米加工系统、微纳米材料沉积喷墨打印系统(高分辨毛细作用直写打印系统),溢鑫科创客服电话400-860-5168转2856,售前、售后均可联系。

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