Zeiss FIB聚焦离子束电镜

配有双聚光镜系统，即便在低电压和高束流下仍能提供高分辨率。借助高分辨率成像和快速分析在更短时间内获取更丰富的信息。同步 Inlens SE 和 EsB 成像可以提供独特的形貌和材料衬度。

技术特点：

在更短时间内收集更丰富的信息
加快纳米断层成像和纳米加工的速度：将低电压 SEM 性能与高达100 nA 的 FIB 束流相结合。

获取最丰富的信息：运用多探测器采集及同步刻蚀与成像能力。

使用 GEMINI技术和可选配的 ATLAS 3D 软件包检测高达 50 k x 40 k 像素的大视野范围。

全方位流程控制
在对环境条件要求苛刻的长时间实验中具备最高稳定性，并能够提供均匀一致的光束剖面。

采集时可以完成系统参数的实时更改，如探针电流或加速电压，而无需对图像进行调整。

图形用户界面操作直观简便。

具有最高灵活度

通过选用大量的探测器和附件实现系统快速升级。

针对不同的原位实验来定制您的系统。

开放应用程序接口（API）能让用户访问每个显微镜参数。