型号: | OLS4500 |
产地: | 日本 |
品牌: | 奥林巴斯 |
评分: |
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OLS4500 纳米检测显微镜
OLS4500是结合了传统光学显微镜、激光扫描显微镜(LSM)以及探针扫描显微镜(SPM)功能的一体机,可以满足不同样品的观测需求,是一台新时代的观察、测量装置。
可以轻松实现从毫米到纳米的观察和测量,放大倍率由几十倍到高达百万倍;可以在光学显微镜模式、激光显微镜模式和探针显微镜模式之间自由切换,而不用担心目标丢失。并且可以使用探针显微镜迅速而正确的完成观察,大大缩短了获取影像的时间;
OLS4500采用了光杠杆法——通过高灵敏度检测出最前端装有探针的微悬臂的微小弯曲量(位移)来进行观测的方法。在悬臂的背面反射激光,并用压电元件驱动Z轴,使激光照射到光电检测器的指定位置,从而正确读取Z方向的微小位移。OLS4500配有:接触模式,动态模式,相位模式,电流模式,表面电位模式(KFM),磁力模式(MFM)。
应用领域:SPM技术与LEXT OLS4100功能的组合意味着可以用很大范围的放大倍率来进行观察和测量,从几十倍到100万倍。可以将该显微镜用于3D测量,从微米范围里相对比较大的样本到纳米尺寸的样本。具有截面形状分析(曲率测量、夹角测量);粗糙度分析;形态分析(面积、表面积、体积、高度、柱状值、承载比);评价高度测量(指定线、指定面积);粒子分析等功能;应用产品包括MEMS(微电子机械系统)、半导体、晶体、液晶、金属材料、陶瓷、化学材料等,如TiO2 单结晶电路板,高分子薄膜,铝合金阳极氧化膜,硬度计压痕、DVD表面等。
奥林巴斯激光共焦显微镜采用了高级光学系统,可通过非破坏观察法生成高画质的图像并进行精确的3D测量。其准备操作也非常简单且无需对样本进行预先处理。
主体规格
LSM部分 | 光源、检出系统 | 光源:405nm半导体激光,检出系统:光电倍增管 | |
总倍率 | 108~17280X | ||
变焦 | 光学变焦:1~8X | ||
测量 | 平面测量 | 重复性 | 100x:3σn-1=0.02μm、50x:3σn-1=0.04μm、20x:3σn-1=0.1μm |
正确性 | 测量值的±2%以内 | ||
高度测量 | 方式 | 物镜转换器上下驱动方式 | |
行程 | 10mm | ||
内置比例尺 | 0.8nm | ||
移动分辨率 | 10nm | ||
显示分辨率 | 1nm | ||
重复性 | 100x:σn-1=0.012μm、50x:σn-1=0.012μm、20x:σn-1=0.04μm | ||
正确性 | 0.2+L/100μm以下(L=测量长度) | ||
彩色观察部分 | 光源、检出系统 | 光源:白色LED,检出系统:1/1.8英寸200万像素单片CCD | |
变焦 | 数码变焦:1~8X | ||
物镜转换器 | 6孔电动物镜转化器 | ||
微分干涉单元 | 微分干涉滑片:U-DICR、内置偏振光片单元 | ||
物镜 | 明视场平面半消色差透镜5X LEXT专用平面复消色差透镜20X、50X、100X | ||
Z对焦部分行程 | 76mm | ||
XY载物台 | 100×100mm(电动载物台) | ||
SPM部分 | 运行模式 | 接触模式、动态模式、相位模式、电流模式﹡、表面电位模式(KFM)﹡、磁力模式(MFM)﹡ | |
位移检出系统 | 光扛杆法 | ||
光源 | 659nm半导体激光 | ||
检出设备 | 光电检测器 | ||
最大扫描范围 | X—Y:最大30μm×30μm、Z:最大4.6μm | ||
安装微悬臂 | 在盒式微悬臂支架上一键安装。使用微悬臂安装位置调整专用工装夹具预对位,更换支架时无需光学调整。 |
物镜规格
型号 | 倍率 | 视场 | 工作距离(W.D.) | 数值孔径(N.A.) |
MPLFLN5X | 108~864X | 2560~320μm | 20.0mm | 0.15 |
MPLAPON20XLEXT | 432~3456X | 640~80μm | 1.0mm | 0.60 |
MPLAPON50XLEXT | 1080~8640X | 256~32μm | 0.35mm | 0.95 |
MPLAPON100XLEXT | 2160~817280X | 128~16μm | 0.35mm | 0.95 |
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