| 型号： | OLS4100 |
| 产地： | 日本 |
| 品牌： | 奥林巴斯 |
| 评分： |
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OLS4100非接触式、无损、快速成像测量，分辨率在微米和亚微米级别。采用405nm半导体激光光源的专用光学系统和独有的双共焦光学系统，可删除未聚焦区域的信号，只将聚焦范围内的反射光检测为同一高度。平面最高分辨率可达0.12um；同时结合高精度的光栅读取能力，可以生成高画质的影像，实现精确的3D测量。使得在Z方向上达到了10 nm的高度分辨率。
配备双共焦光路，对含有不同反射率的样品，也能获得清晰的图像；可获得线宽、面积、体积、台阶、线与面粗糙度和平面几何参数等测量数据。
LEXT OLS4100其应用领域非常广泛，可用来测量表面物理形貌，进行微纳米尺度的三维形貌分析，如3D 表面形貌、2D 的纵深形貌、轮廓（纵深、宽度、曲率、角度）、表面粗糙度等，样品包括MEMS（微电子机械系统）、半导体、晶体、液晶、金属材料、陶瓷、化学材料等。
主体规格
LSM部件 | 光源/探测器 | 光源：405nm半导体激光，探测器：光电倍增管 | |
总倍率 | 108x-17,280x | ||
变焦 | 光学变焦：1x-8x | ||
测量 | 平面测量 | 重复性 | 100x：3σn-1=0.02μm |
正确性 | 测量值±2% | ||
方式 | 物镜转换器上下驱动方式 | ||
行程 | 10mm | ||
标尺分辨率 | 0.8nm | ||
显示分辨率 | 1nm | ||
移动分辨率 | 10nm | ||
重复性 | 50x：σn-1=0.012μm | ||
正确性 | 0.2±L/100μm以内（L=测量长度μm） | ||
彩色观察单元 | 光源/探测器 | 光源：白色LED，探测器：1/1.8-inch200万像素单晶片CCD | |
变焦 | 数码变焦：1x-8x | ||
物镜转换器 | 明视场六孔电动转换器 | ||
微分干涉法单元 | 微分干涉法滑杆：U-DICR，内置偏振光片单元 | ||
物镜 | 明视场平场半复消色透镜5x，10x LEXT-专用平场复消色透镜20x，50x，100x | ||
Z轴调焦单元行程 | 100mm | ||
X/Y轴载物台 | 100×100mm（电动载物台），可选：300mm×300mm | ||
物镜规格
型号 | 倍率 | 视场 | 工作距离（W.D.） | 数值孔径（N.A.） |
MPLFLN5X | 108~864X | 2560~320μm | 20.0mm | 0.15 |
MPLFLN10X | 216~1728X | 1280~160μm | 11.0mm | 0.30 |
MPLAPON20XLEXT | 432~3456X | 640~80μm | 1.0mm | 0.60 |
MPLAPON50XLEXT | 1080~8640X | 256~32μm | 0.35mm | 0.95 |
MPLAPON100XLEXT | 2160~17280X | 128~16μm | 0.35mm | 0.95 |
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