ICP-反应离子刻蚀机
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ICP-反应离子刻蚀机

参考价:¥150万 - 200万
型号: KVET
产地: 韩国
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核心参数
科睿设备有限公司
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产品详情

蚀刻材料金属和电介质材料蚀刻

基板最大尺寸  8英寸

产品产量  1片/次

源(气): 注入式喷淋头式

卡盘单元卡盘通过冷却器冷却

基板背面He冷却

带夹具的机械晶片夹紧

电源偏置:RF功率Max.2kW@13.56MHz

ICP源:射频功率Max.3kW@13.56MHz

极限压力<5.0E-6Torr(TMP和干式泵)

压力控制摆阀,baratron压力计

负载锁定室极限压力:<5.0E-3Torr(干式泵或旋转泵)

气体输送SF6、CHF3、CF4、C4F8、BCl3、Cl2O2、Ar、He、,…

控制PC控制(UPRO软件)

可选静电卡盘,盒式装载锁

系统尺寸(宽*深*高)2050mm X 800mm X 1600mm



科睿设备有限公司为您提供ICP-反应离子刻蚀机KVET,nullKVET产地为韩国,属于进口等离子体刻蚀设备,除了ICP-反应离子刻蚀机的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供环境控制型开尔文探针系统,科睿设备有限公司客服电话400-860-5168转3281,售前、售后均可联系。

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