资料摘要
资料下载飞行时间二次离子质谱仪,目前常用的分析器主要有两种,一种使用通用型的离子反射镜(Reflectron),如ION-TOF公司的TOF-SIMS 5型号(图1a),另一种是专用型的三次聚焦飞行时间(TRIFT)分析器,如ULVAC-PHI公司的nanoTOF II型号(图1b),通用型的离子反射镜(Reflectron)分析器因构造简单,成本低廉,往往和其它色谱方法联用,如液相色谱-质谱联用(LC-TOF),广泛地用于化学分析。而三次聚集飞行时间(TRIFT – TRIple Focusing TOF)分析器,构造相对复杂,设计精密,且成本高昂,目前仅用于超高真空条件下,固体样品表面成分的分析及其它相关应用。
全新功能-高德公司的技术视频
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光电子能谱仪(XPS)的自动双束中和功能
简介:当用XPS仪器分析绝缘样品时,样品表面必须保持电中性,即样品表面无静电荷分布。假设样品表面分布有静电荷,就会导致光电子飞出的动能发生变化。通常表面荷电会导致光电子动能减小,即结合能向高端偏移。 为了很好的解决这个问题,ULVAC-PHI公司的XPS设备增加了双束中和枪的功能,中和枪为绝缘样品荷电区域提供了稳定的荷电补偿。
光电子能谱仪(XPS)的精準样品定位
简介:样品自制备后到放入分析室,确定分析位置需要经过几个步骤,各个步骤的精确定位以及样品导航,在ULVAC-PHI的XPS光電子能譜儀儀器上均经过精心设计,以满足用户不同层次的需求。本文将分别以PHI Quantera II(简称QII) 与PHI-5000 VersaProbeII (简称VP II)样品导航和定位为例,深入介绍ULVAC-PHI的XPS在该方面的设计理念及实际操作。
飞行时间二次離子質譜 - 屏蔽亚稳态离子是如何發生的?
简介:在Vol.47的电子报中,介绍了是专用型的三次聚集飞行时间(TRIFT)分析器,在设计理论上明显优于通用型的离子反射镜(Reflectron)如图1a。另外,由于几何结构上的原因,而通用型的离子反射镜(Reflectron)内部不允许添加任何光阑,无法屏蔽亚稳态离子;而三次聚集飞行时间(TRIFT)分析器,如图1b的ULVAC-PHI nanoTOF II,可以在三个静电分析仪(ESA)之间添加不同的光阑,实现亚稳态离子的抑制。
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