2016年全国表面分析科学与技术应用学术会议于2016年8月11-12日在云南昆明成功举办。100余名从事表面分析技术研究与应用的专家学者参加了会议。该会议由高校分析测试中心研究会、全国微束分析标准化技术委员会表面分析分技术委员会、北京分析测试协会表面分析专业委员会主办,昆明理工大学分析测试研究中心、国家大型科学仪器中心─北京电子能谱中心、昆明红源会展有限公司协办。
作为业界设备制造商代表,高德叶上远先生、ULVAC-PHI 公司宮山卓也先生和高德总经理陈文征博士获邀参会并在会上做了精彩的分享。叶上远先生的报告以“The study of how primary beam affect the analysis result in surface analysis”为主题;宮山卓也先生的报告主题则是“Introducing the newest MS/MS capability in the Time-of-Fight SIMS”。
2016年全国表面分析科学与技术应用学术会议大合照
高德叶上远正在作專業的報告
ULVAC-PHI 的宮山卓也先生正在作專業的報告
新闻报道I《焦点访谈》20221206 科技成果 落地生“金”—PHI表面分析技术助力科技成果转化
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ULVAC-PHI中国子公司成立仪式暨2023全国表面分析新技术与应用研讨会成功举办
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