高德合作举办表面分析技术应用研讨会暨光电子能谱仪培训班第一轮通知

清华大学深圳研究生院

表面分析技术应用研讨会暨光电子能谱仪培训班

（第一轮通知）

清华大学深圳研究生院于2016年底完成PHI 5000 VersaPrboe-II扫描聚焦型X射线光电子能谱仪器（ULVAC-PHI,Inc.）的安装、调试工作，设备全部功能现已正式对外开放。光电子能谱仪被广泛应用于各类材料的研究中, 包括：有机发光体(OLED)、太阳能电池、锂电池、燃料电池、石墨烯、食品安全等。借助表面分析手段，可实现产品工艺改良和性能提高的目的，尤其光电子能谱(XPS)和紫外光电子能谱(UPS)都提供了材料的关键信息，是不可或缺的研究手段。目前，XPS可实现较高的空间分辨（<10um）能力，配合团簇离子源的逐层剖析功能可实现多层有机/无机结构材料无损深度分析, 进一步提高了表面分析应用的深度和广度。此外, 配合样品传输管可使样品在真空或惰性气氛下转移和传输，有效地避免样品在转移过程中可能存在的污染。

为增进广大师生对XPS功能的了解，提高对XPS数据分析处理能力，清华大学深圳研究生院材料与器件检测中心将邀请ULVAC-PH原厂工程师及其中国代表公司PHI(China)高德英特(北京)科技有限公司相关工程师，针对该中心现有X射线光电子能谱仪仪器的功能和应用范围,开展一次技术交流活动。本次活动将分为两个主要部分：第一部分将以研讨会的方式进行,邀请ULVAC-PHI原厂科学家对表面分析最新的技术和应用作出讲解，让与会者再一次清楚的了解现今的表面分析工具可以提供怎么样的讯息，以应用在各种研究范畴上；第二部份以培训班进行，目的为提供参会人士如何对光电子能谱的分析数据进行进理、包装定性定量、分峰拟合、深度分析和图像处理的方法。活动详细安排如下:

1.    会议时间、地点:

会议时间：2017年3月31日下午2:00 至 6:00

2017年4月1日上午 9:00 至 下午 6:00

地址：清华大学深圳研究生院能源与环境大楼报告厅

2.    会议安排:

3月31日星期五

1:30pm ~ 2:00pm – 报到时间

2:00pm ~ 2:10pm – 研讨会开场, 领导致辞

2:10pm ~ 2:50pm – XPS 的多种应用讨论叶上远 (PHI China)

2:50pm ~ 3:30pm – ULVAC-PHI 科学家应用讨论报告 (ULVAC-PHI)

3:30pm ~ 4:00pm – Break Time, 仪器参观

4:00pm ~ 4:30pm – ULVAC-PHI 科学家 XPS 原理 (ULVAC-PHI)

4:30pm ~ 5:30pm – Live Demo 实时分析演示和讨论

5:30pm ~ 6:00pm – Q&A,

4月1日星期六

9:00am ~ 10:15am – 全谱/窄谱, 峰较正, 定性/定量分析, 灵敏因子

10:15am ~ 12noon – 分峰拟合, 峰形, 峰背景概念

1:30pm ~ 3:00pm – 分峰拟合复杂案例分析

3:00pm ~ 3:30pm – Break Time

3:30pm ~ 5:00pm – 深度分析, 线扫瞄, 面扫瞄影像数据处理

5:00pm ~ 6:00pm – Q&A

3.    会议报名与收费

研讨会会议免费。请以以下格式报名, 将报名信息填妥后发送邮件至:

geng.huanran@sz.tsinghua.edu.cn

或电话联络：耿焕然: +86-15019479017 （0755-26036417）

(注：为合理安排会场，请大家提前报名，报名截止日期2017年3月27日)