中国二次离子质谱会议

PHI-CHINA热烈祝贺 “第七届中国二次离子质谱会议”(The 7th Chinese National Conference On Secondary Ion Mass Spectromertry,SIMS-China VII)于2018108日至12日在苏州成功举办。该会议由中国真空学会、中国电子学会电子材料学分会主办,中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所真空互联实验室承办。SIMS会议每两年举办一次,清华大学著名的二次离子质谱专家查良镇教授是该会议的倡议者和创办者。


ULVAC-PHI公司的漆原宣昭先生(Nobuaki Urushihara、柴崎琢自先生(Takuji Shibasaki)、Shinichi Iida先生、Hsunyun Chang女士和Ashley Ellsworth女士专程来华参加此次会议,同时PHI-CHINA公司的执行总监叶上远先生、凌媚女士、张伟先生和朱润德先生也一同参加。


致力于二次离子质谱科学研究与人才培养,大力发展SIMS技术在中国的应用,推进与国际SIMS领域的深入交流。


Ashley Ellsworth女士在会上就“二次离子质谱与质谱的串联成像来表征有机和无机材料”进行了一次非常有趣的讨论。她用两个例子来解释这个新兴的方法,其中一个案例讲述的是研究亚马逊蜻蜓的翅膀。结合新开发的串联质谱连用技术,Tof-SIMS将在生物学领域再一次取得突破。


多年来,SIMS已成为世界上非常强大的分析技术,帮助研究人员学术研究与技术支持。而中国的SIMS协会快速成长为世界上最大的SIMS协会之一。在2017年,波兰国际SIMS会议上,中国参与人数创历史新高。我们相信SIMS技术将继续在中国市场发挥更重要的作用,同时中国也将成为SIMS最重要的市场之一。


PHI-CHINA是全球唯一一家生产XPSAESTof-SIMSDynamic-SIMS等全系列产品的表面分析仪器制造商,也是本次活动的固定赞助商。



SIMS会议合影,从左至右分别是:Shinichi Iida先生,Nobuaki Urushihara先生,Ashley Ellsworth女士,Takuji Shibasaki先生,Hsunyun Chang女士,叶上远先生张伟先生


                               Ashley Ellsworth博士介绍质谱串联的新的表征材料方法


                                                                       SIMS会议合影


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