[会议通知]PHI CHINA 2020 表面分析应用与学术研讨会(第一轮)

爱发科费恩斯(南京)仪器有限公司

2020/05/07 17:26

随着科学技术的飞速发展，先进的表面分析技术已经成为材料、能源、催化、微电子、半导体产业以及钢铁工业等领域研究表面特性所必需的实验技术。在科学研究和产业领域，具备微区分析功能的表面分析技术对解决复杂问题具有重要作用。ULVAC-PHI,INC.在表面分析领域有着50余年的发展历史，专注于高灵敏、高能量分辨和高空间分辨技术研发，开发了一系列具有独特技术优势的表面分析设备，包括X射线光电子能谱(XPS)、反光电子能谱(IPES)、俄歇电子能谱（AES）、飞行时间二次离子质谱（TOF-SIMS）以及串联质谱(Tandem MS / MSMS) 等，这些分析设备可以提供元素组分、化学态、电子结构和分子结构等关键信息，为表面特性研究及材料/器件性能提升起到了重要的作用。

为积极推动表面分析应用技术的发展，促进表面分析技术与其它学科的融合，更好地结合表面分析技术解决问题，同时加强同行之间交流与合作，展示相关的新成就、新进展，PHI CHINA拟于2020年10月22日-23日在北京理工大学中关村校区举办研讨会。此次会议由高德英特（北京）科技有限公司与北京理工大学材料学院学院分析中心共同举办，旨在建立表面分析的交流平台，形成研讨的学术氛围，让思想碰撞出火花，并共同提升理论与技术水平，促进表面分析科学研究队伍的壮大。

诚邀国内外相关高校和科研院所的科研人员、科学领域的专家学者、技术人员进行技术研讨，共商合作，共谋发展。

一会议时间与地点

时间：初步拟定为 2020 年 10 月 22 日-23 日

(会议最终安排会根据国内疫情发展形势及相关政策要求做出实时调整)

地点：北京理工大学中关村校区 5 号楼 10 层

二会议形式及内容

1、邀请报告

2、ULVAC-PHI,INC. 表面分析技术最新发展和应用

三参会信息

1、参会费用和食宿安排

本次会议不收取会务费，参会人员的食宿费和交通费用自理。会务组会联系酒店为本次会议预留一定数量的房间,如有需要请提前告知。

2、参会报名