ULVAC-PHI,INC.在表面分析领域有着50余年的发展历史，专注于高灵敏、高能量分辨和高空间分辨技术研发，开发了一系列具有独特技术优势的表面分析设备，包括X射线光电子能谱(XPS)、反光电子能谱(IPES)、俄歇电子能谱(AES)、飞行时间二次离子质谱(TOF-SIMS)以及串联质谱(Tandem MS/MSMS)等，这些分析设备可以提供元素组分、化学态、电子结构和分子结构等关键信息，为表面特性研究及材料/器件性能提升起到了重要的作用。
其中在X射线光电子能谱仪领域，PHI研发了独具特色的扫描聚焦型XPS，X射线束斑优于10 um，实现了对样品的元素组分及化学态微区分析功能，同时束斑可调的特点也兼顾了对常规样品的测试，成为科学研究、质量控制和失效分析等领域的利器。PHI一直秉持为用户提供最先进的表面分析技术的初心，在技术创新的道路上从未停歇，努力为用户提供从小束斑微区分析到大束斑高通量分析的完美XPS仪器。
PHI CHINA在9月18日15:00-17:00举办了新的一期表面分析技术专题讲堂。高德英特中国区执行总监叶上远Wensly在“不忘初心，创无止境|PHI XPS-全面高性能电子结构综合分析平台”的主题报告中跟大家分享了PHI XPS的最新进展。
同时，我们邀请的嘉宾华东师范大学的保秦烨教授，以“光电子能谱在有机光伏、钙钛矿光伏研究中的应用”为题，通过报告给大家介绍了UPS/XPS/IPES能谱技术，以及基于能谱技术在软物质光电材料(有机半导体，杂化钙钛矿)表/界面物性方面的研究进展。
下面是本次报告的视频及PPT重点，记得点赞转发收藏哟~
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