飞行时间二次离子质谱(TOF SIMS)作为重要的的表面分析技术,可以对样品表面的元素组成和分子结构进行痕量定性分析,具有优异的检测灵敏度,以及极佳的质量分辨率和空间分辨率,是一种能够在微米-纳米级尺度上研究样品表面化学组成的分析利器,目前已经广泛应用于科学研究和工业生产中。在本次的TOF-SIMS用户云端培训中,我们邀请到日本ULVAC-PHI分析实验室的高级首席科学家Shinichi Iida,为大家带来TOF-SIMS技术原理及数据处理方面的系列讲座,此次云端培训分为以下两个课程:
参会信息
7月28日 周四 14:00-15:20
TOF SIMS原理及技术特点
7月28日 周四 15:40-17:00
TOF SIMS实验技术及数据处理培训
腾讯会议
514-520-272
*请提前报名获取入会密码
主讲介绍
Shinichi Iida
日本 ULVAC-PHI 分析实验室高级首席科学家。于2004年获得日本大阪大学应用物理学博士学位。毕业后加入日本ULVAC-PHI 分析实验室,致力于表面分析技术的应用研究工作,在表面科学和材料表征分析领域拥有20多年的丰富经验;在ULVAC-PHI,Iida博士负责分析实验室团队的运行,并在 TOF-SIMS 和 XPS 的应用方面与行业密切合作。
扫码报名
新闻报道I《焦点访谈》20221206 科技成果 落地生“金”—PHI表面分析技术助力科技成果转化
PHI XPS 用户赏析I东京大学
用户成果赏析I Science:钙钛矿太阳能电池稳定性研究
ULVAC-PHI中国子公司成立仪式暨2023全国表面分析新技术与应用研讨会成功举办
相关产品
关注
拨打电话
留言咨询