LOR负光刻胶|LOR|-上海尖丰光电技术有限公司

产品详情

LOR? 负光刻胶

产品名称：光刻胶

型号：LOR

关键词：MicroChem系列光刻胶

PMGI & LOR负光刻胶使能高产，广泛应用于在处理多种数据存储和无线芯片到MEMS的金属剥离。PMGI & LOR负光刻胶作为双叠层光刻胶，PMGI & LOR在超出单层防腐可以延长限制剥离处理。这包括非常高的分辨率的金属化（＜0.25μM），以及非常厚（＞4μm）金属化。这些独特的材料可几乎满足任何客户需要。

材料用途：金属电梯加工，桥制造，释放层

材料属性：

l 覆盖在成像抗蚀剂不会混杂

l 在TMAH双叠层一步发展，或KOH开发

l 高热稳定性：Tg ~190 C

l 快速清除和常规抗剥离干净

l 0.25μm微米双层抗蚀成像

l 产量高，可用于很厚（＞3μm）金属剥离处理

Bi-Layer Lift-Off Process	Lift-Off: An enabling, additive lithographic process.

Step 1. LOR or PMGI is coated	1. Bi-layer resist pattern

Step 2. The imaging resist is coated onto the LOR or PMGI layer.	2. Metal Deposition

Step 3. The imaging resist is exposed.	3. Clean solvent lift-off

Step 4. The wafer is developed.

Step 5. Metal Deposition

Step 6. Lift-Off!

Business information

工商信息

信息已认证

企业名称: 上海尖丰光电技术有限公司
企业类型:
信用代码: 310112001353744
成立日期: 2014年04月04日
注册资本: 100
经营范围: 从事光电技术、计算机技术领域内的技术开发、技术转让、技术咨询、技术服务,机电设备、激光设备、电子设备、化工设备、实验室设备、通信产品、电子产品、光纤通信产品、光电器件、电子元器件、金属材料(除专控)的销售,从事货物及技术的进出口业务。【依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动】

供货周期：	现货
品牌：	MicroChem
规格：	LOR
货号：
CAS号：

LOR负光刻胶

Lift-Off: An enabling, additive lithographic process.