型号: | Plasma 3000 |
产地: | 北京 |
品牌: | 钢研纳克 |
评分: |
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仪器介绍
Plasma 3000 ICP光谱仪可广泛适用于冶金、地质、材料、环境、食品、医药、石油、化工、生物、水质等各领域的元素分析。
Plasma 3000 ICP光谱仪具有垂直火炬,双向观测,冷锥消除尾焰,具有更宽的动态线性范围和更低的背景。
固态射频发生器,高效稳定,体积小巧,匹配速度快,确保Plasma 3000 ICP光谱仪高精度运行及优异的长期稳定性。
高速面阵 CCD 采集技术,单次曝光获取全部谱线信息,Plasma 3000 ICP光谱仪真正实现“全谱直读”。
功能强大的软件系统,简化分析方法的开发过程。应用工程师为ICP光谱仪用户量身打造简洁、舒适的操作体验。
技术参数
Plasma 3000 ICP光谱仪分析性能
检 出 限:亚 ppb- ppb 短期稳定性:RSD ≤ 0.5%(1mg/L)
长期稳定性:RSD ≤ 1.0%(4h,1mg/L)
光源:固态射频发生器,功率连续 1 瓦可调 震荡频率:27.12MHz
输出功率:500W-1600W 功率稳定性:< 0.1%
仪器规格:尺寸:宽 x 深 x 高(2650px x 1675px x 1875px) 重 量:约 180kg
光学系统:分析谱线范围:165-950nm
分 辨 率: 0.007nm@200nm 光室恒温:38℃ ±0.1℃
CCD 像素:1024x 1024;单像素面积:24μm x 24μm
实验室湿度环境:相对湿度 20%~80% 氩气纯度:不小于 99.995%
排 风:不小于 400 立方米 / 小时
电 源:200V~240V AC 单相;50Hz~60Hz;4kVA
仪器特点
分光系统
Plasma 3000 ICP光谱仪采用径向观测与轴向观测设计,适应亚ppm到高含量的元素测量。 中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构,使用CaF2棱镜,提高光路传输效率。 优化的光学设计,采用非球面光学元件,改善成像质量,提高光谱采集效率。 光室气体氛围保持技术,缩短光室充气时间,提高紫外光谱灵敏度及稳定性,开机即可测量。 包围式立体控温系统,保障光学系统长期稳定无漂移。
光源
固态射频发生器,高效稳定,体积小巧,效率高,匹配速度快,钢研纳克Plasma 3000 ICP光谱仪能适应各种复杂基体样品及挥发性有机溶剂的测试,均能获得优异的长期稳定性。 垂直炬管的设计,具有更好的样品耐受性,减少了清洁需求,降低了备用炬管的消耗。 冷锥消除尾焰技术,最大程度地降低自吸效应和电离干扰,从而获得更宽的动态线性范围和更 低的背景,保证准确的测量结果。 具有绿色节能待机模式,待机时降低输出功率,减小气体流量,仅维持等离子体运行,节约使用成本。
简洁的炬管安装定位设计,快速定位,精确的位置重现。 实时监控仪器运行参数,高性能CAN工业现场总线,保障通讯高效可靠。
进样系统
简洁的炬管安装设计,自动定位炬管位置,精确的位置重现。钢研纳克Plasma 3000 ICP光谱仪配备系列经过优化的进样系统,可用于有机溶剂、高盐/复杂基体样品、含氢氟酸(HF) 等样品的测试。
使用可拆卸式或一体式炬管,易于维护,转换快速,使用成本低。Plasma 3000 ICP光谱仪使用质量流量控制器控制冷却气、辅助气和载气的流量,保障测试性能长期稳定。 多通道12滚轮蠕动泵,提升样品导入稳定性。
检测器
大面积背照式CCD检测器,全谱段响应,高紫外量子化效率,抗饱和溢出,具有极宽的动态范 围和极快的信号处理速度。 一次曝光,完成全谱光谱信号的采集读取,从而获得更为快速、准确的分析结果。Plasma 3000 ICP光谱仪具有同类产品中最大靶面尺寸,百万级像素,单像素面积24μm X 24μm,三级半导体制冷,制冷温 度 低,具有更低的噪声和更好的稳定性。
软件系统
人性化的界面设计,流畅易懂,简便易用,针对分析应用优化的软件系统,无须复杂的方法开发, 即可快速开展分析操作。
丰富的谱线库,智能提示潜在干扰元素,帮助用户合理选择分析谱线。 轻松的观测方式设置,直观的测试结果显示。
安全防护
全方位电磁屏蔽,减少电磁辐射 连锁门保护,避免用户误操作可能带来的风险 防紫外观测窗
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