高纯度10%柠檬酸溶液用于CMP工艺

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高纯度10%柠檬酸溶液用于CMP工艺用于LED、半导体行业

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837-36223 CA-HP 10 高纯度10%柠檬酸溶液 10L N/A 室温 各种清洗剂的原料,金属离子杂质除去用清洗剂

739-14613 CIREX 高性能柠檬酸溶液 10L N/A 室温 金属离子杂质除去，用有机酸把吸附在晶圆表面的金属杂质离子化，再通过螯合剂使它稳定，本清洗剂可有效防止再吸附

730-16103 CLEAN-100 柠檬酸溶液 10L N/A 室温 可以同时去除Cu-CMP  工艺流程中产生的颗粒和金属离子杂质，对晶圆表面各种材料的蚀刻速率非常低

   高纯度10%柠檬酸溶液用于CMP工艺用于LED、半导体行业

849-11301 NCW-1001 功能性清洗剂 1L N/A 室温 低发泡性，有效去除各种污垢，高稀释倍率，高洗净力，所以成本低

845-11401 NCW-1002 功能性清洗剂 1L N/A 室温 低发泡性，有效去除各种污垢，高稀释倍率，高洗净力，所以成本低

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