NMC-3000 MOCVD金属有机化学气相沉积系统
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NMC-3000 MOCVD金属有机化学气相沉积系统

参考价:面议
型号: NMC-3000
产地: 美国
品牌: 那诺-马斯特
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那诺-马斯特中国有限公司
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等离子辅助MOCVD技术

NMC-3000 MOCVD系统概述:

        NANO-MASTER针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10-7Torr极限真空)、PC全自动控制,完全的安全互锁。

         目前,这项技术延伸到5个4"晶圆的立柜式独立批处理系统,该系统可以集成到集群配置中以满足高产量的要求。


NMC-3000 PAMOCVD系统应用:

  • III-V族半导体层

  • 蓝光及绿光LED

  • 激光二极管

  • 在紫外-红外光电中的InN纳米棒

  • 在3D和2D材料中的MoS2,BN和石墨烯沉积


NMC-3000 PAMOCVD系统特点:

  • 台式系统

  • 5个带独立冷却槽的起泡器

  • 加热的气体管路

  • 950 °C样品台,2”晶圆片

  • 3个气体环

  • RF等离子源,带淋浴头气体分布

  • 工艺完成后N2自动冲洗

  • 极限真空5x10-7Torr

  • 260 l/s的涡轮分子泵串接无油干泵

  • 通过LabView软件实现PC计算机全自动控制

  • 菜单驱动,4级密码访问控制

  • 完整的安全联锁


NMC-3000 PAMOCVD系统 选配:

  • 独立式系统

  • ICP或者微波等离子源

  • 14”立方的电抛光不锈钢腔体

  • 8”或者12”的基片夹具

  • 700°C旋转基片夹具用于6”样品台,950°C用于4”样品台

  • 增加鼓泡器和MFC

  • 自动上下片

  • 集群配置可兼容


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