型号: | NIE-4000 (M) |
产地: | 美国 |
品牌: | 那诺-马斯特 |
评分: |
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IBE离子束刻蚀系统
NIE-4000(M)IBE离子束刻蚀产品概述:
NANO-MASTER的离子束刻蚀系统具有很强的适应性,可根据不同的应用而按不同的配置进行建构。多样的样片夹具和离子源配置可支持用户不同的应用。用于离子束系统(或称离子铣系统)的样片夹具可以支持±90°倾斜、旋转、水冷和背氦冷却。
NANO-MASTER技术已经展示了可以把基片文库保持在50°C以内的能力。通过倾斜和旋转,可以刻蚀出带斜坡的槽,并且改善了对侧壁轮廓和径向均匀度的控制。
不同的选配项可以用于不同的网格配置以及中和器。溅射选配项可以支持对新刻蚀金属表面的涂覆,以防氧化。此外,还可以选配单晶圆自动上下片功能。
NIE-4000(M)IBE离子束刻蚀产品特点:
优化的14”立方的电抛光不锈钢腔体
水冷±90°自动倾斜旋转基片夹具
带不锈钢气体管路及气动截止阀的MFC
直流离子源1cm-16cm
6”基片的刻蚀均匀度±1.2%
能够控制基片温度在50°C以内
26”x44”占地面积的不锈钢柜体,非常适用于百级超净间
基于计算机的全自动工艺控制,菜单驱动
LabVIEW友好用户界面
EMO和安全互锁
NIE-4000(M)IBE离子束刻蚀产品选配:
光谱终点监测系统
背氦冷却
21”立方的电抛光不锈钢腔体
自动上下片
1200L/Sec涡轮分子泵
冷泵配置
增加MFC用于反应气体实现RIBE
栅格式RFICP离子源
中空阴极或灯丝中和器
溅射源用于钝化层沉积
NIE-4000(M)IBE离子束刻蚀产品应用:
III-V族光学元件
激光光栅
高深宽比的光子晶体刻蚀
SiO2,Si和金属的深槽刻蚀
用户单位 | 采购时间 |
西安光机所 | 2012/09/01 |
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