其他null检测 | 反射光谱法计算薄膜厚度-百道亨仪器设备（北京）有限公司

方案摘要

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应用领域	半导体
检测样本	其他
检测项目
参考标准	薄膜、厚度、反射率、光刻胶、硅片、VeeMAX、镜面反射附件

薄膜的反射扫描会生成干涉条纹。各波长范围内的条纹数量取决于反射角、薄膜厚度和薄膜折射率。如折射率已知，则在一个折射角采集的数据足以计算薄膜厚度；如折射率未知，在两个折射角所采集的数据可用于计算折射率和薄膜厚度。所有计算均在电子数据表格中自动完成，以便技术人员操作。采用分光光度计得到的结果与折光仪测得的结果良好吻合。半导体制造行业常要求在硅片表面沉积光阻材料。旋涂或气相沉积的膜厚精度对于光子器件（包括光刻胶、导电聚合物膜、导电氧化物薄膜和太阳能电池）的研究员和制造商至关重要。薄膜性能和成本在很大程度上取决于薄膜厚度，因此频繁测量对生产开发和质控至关重要。Thermo Scienti?c 紫外-可见分光光度计附件提供轻松快速的无损检测方法进行这些测量。采用 Thermo Scienti?c Evolution® 300 紫外-可见分光光度计搭配VeeMAX紫外可见可变角镜面反射附件进行实验。

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配置单

Thermo E 300 紫外可见光分光光度计
型号：Evolution 300

¥3万 - 5万
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方案详情

简介，背景，实验方法都在表格里，具体详细内容可以看表格。

简介

薄膜的反射扫描会生成干涉条纹。各波长范围内的条纹数量取决于反射角、薄膜厚度和薄膜折射率。如折射率已知，则在一个折射角采集的数据足以计算薄膜厚度；如折射率未知，在两个折射角所采集的数据可用于计算折射率和薄膜厚度。所有计算均在电子数据表格中自动完成，以便技术人员操作。采用分光光度计得到的结果与折光仪测得的结果良好吻合。

背景

半导体制造行业常要求在硅片表面沉积光阻材料。旋涂或气相沉积的膜厚精度对于光子器件（包括光刻胶、导电聚合物膜、导电氧化物薄膜和太阳能电池）的研究员和制造商至关重要。薄膜性能和成本在很大程度上取决于薄膜厚度，因此频繁测量对生产开发和质控至关重要。Thermo Scientiﬁc 紫外-可见分光光度

计附件提供轻松快速的无损检测方法进行这些测量。

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文献贡献者

百道亨仪器设备（北京）有限公司

银牌会员丨第6年

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