型号: | J200 激光诱导击穿光谱仪 |
产地: | 美国 |
品牌: | ASI |
评分: |
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应用
美国应用光谱公司 (Applied Spectra Inc.)专注研究激光剥蚀和光谱分析技术的高技术公司。 研发人员均为美国劳伦斯伯克利国家实验室的研究人员。 公司总裁Richard Russo 博士为美国劳伦斯伯克利国家实验室的资深科学家, 从事激光剥蚀及激光光谱元素分析技术三十多年, 创造性的将激光剥蚀技术 (Laser Ablation, LA) 及激光诱导击穿光谱 (Laser Induced Breakdown Spectroscopy, LIBS)相融合, 研发了J200系列激光剥蚀进样系统及光谱分析系统。
J200 纳秒激光剥蚀进样系统及光谱分析系统实现了LIBS与LA-ICP-MS的同时测量,并具备多种测量功能: 可测量常量, 微量和同位素 (与ICP-MS串联);分析有机元素及轻元素; 元素三维空间分布;校正ICP-MS质谱信号。主要用于地质矿物,土壤,植物,合金,新能源材料 (例如锂电池材料), 刑侦证据等样品的剥蚀进样及化学成分分析。
J200激光剥蚀固体进样系统及光谱分析系统可与市面上的四级杠质谱仪, 飞行时间质谱仪和高分辨质谱仪串联使用。
J200 LIBS系统特色
高稳定Q开关, 短脉冲Nd:YAG 激光 可选择多波长 < 5 nsec at 213 nm,创新的模组化设,因分析需求,提供三种LIBS 检测器选择。
稳定激光能量的光闸设置 ,高分辨双CMOS相机系统, 可用于宽视野观测样品表面特征,应用光谱公司的 Flex 样品室内置气体模组可优化气流和颗粒清洁能力,满足不同测量要求,先进的微集气管设计,可尽可能的减少排气,防止集结剥蚀颗粒,消除记忆影响。
双通道高精度质量流量控制器和电子控制阀
自动样品高度调整功能
J200激光诱导击穿光谱仪采用ASI专利技术:剥蚀导航激光和样品高度自动调整传感器相结合,解决了若样品表面凹凸不平而剥蚀不均、导致元素含量值误差大的问题;激光能量稳定阀确保了到达样品表面的激光能量均匀,使所有采样点的激光烧蚀均匀一致;3-D全自动操作台最大行程可达100mmx100mmx36mm,XY行程分辨率0.2μm,Z行程分辨率0.1μm, 优于其它任何同类产品。
J200激光诱导击穿光谱仪可对固、液、气等样品进行全元素LIBS快速检测
J200激光诱导击穿光谱仪配备有固体样品室,还可根据用户需求同时配置气体、液体样品室,并通过设置可自动切换的光路系统,实现固、液、气体样品室在同一系统中的自动化切换,测量过程中无需人为拆卸。
系统配置
主机系统:包括激光器及控制系统,激光传输光学元件,样品台、样品室、气体管路系统等、样品成像系统等;
等离子体光谱检测器:Czerny Turner光谱仪/ICCD相机、阶梯光栅光谱仪/ICCD相机、同步4/6通道CCD光谱仪三种LIBS检测器可选;
软件系统:系统操作软件、数据分析软件、TruLIBS发射光谱数据库、化学统计软件。
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