关于高性能角分辨阴极发光成像的网络研讨会
主题:高性能角分辨阴极发光在纳米材料科学,地质学和纳米光子学的应用
时间:6月21日星期三:悉尼时间3时(AMS时间早上7点)
主讲:DELMIC的内部应用专家Dr. Toon Coenen
注册参加:Webina点击注册(http://www.axt.com.au/angle-resolved-cathodoluminescence-webinar-registration/)
我们很高兴地宣布,我们将于6月21日下午3点(AEST)举办阴极发光网络研讨会(CL)。网络研讨会将重点覆盖使用阴极发光研究纳米光子学,地质学和纳米材料科学。参与者将有机会了解不同类型的CL技术,以及它们如何适用于不同的研究领域。之后,将展示delmic公司SPARC系统的实验设置以及如何实现角分辨CL成像。研讨会也会演示纳米光子学,材料科学和地质学领域的几个真实案例,期望给您一个直观认识。
最近,电子束光谱技术已经成为纳米科学研究的强大工具,因为它能够生成,探针和控制远低于光衍射极限的光谱的能力。利用电子束超高的空间分辨率的优势,结合电子束激发与光谱新技术,可以实现很多高端研究的应用。在电子显微镜内收集电子束激发辐射的高空间分辨阴极发光(CL),在纳米科学研究领域有着潜力巨大的应用。
长期以来,CL光谱主要用于地质学分析和矿物鉴定。但在过去二十年中,其应用范围已经显著拓展。近年来,它已经被应用于研究纳米材料科学,地质学和纳米光子学领域中的金属,半导体和电介质(纳米)材料的光学性能,包括等离子激元和超材料。
我们开发的CL光谱的特殊功能,可以有效地测量光谱光强和波长以及发射角度分布(ARC-angle-resolved Cathodoluminscence)。
关于演讲者
网络研讨会将由DELMIC的应用专家Dr. Toon Coenen主持。 Toon在University College Utrecht。在获得理学学士学位后,他继续在University College Utrecht学习化学和物理学,并在2010年获得硕士学位。后师从著名纳米光子学教授阿尔伯特·波尔曼(Albert Polman)在阿姆斯特丹的研究所FOM Institute of AMOLF,并于2014年荣获博士学位。在那里,Toon Coenen合作开发了第一个版本的SPARC阴极发光成像系统,并用它来研究各种金属和电介质纳米结构的纳米尺度光学性能。在他的博士学位期间,他也是斯坦福大学马克·布朗斯马教授课题组的访问学者,主要关注等离子激元结构材料的EELS研究。目前他在Delmic担任阴极发光成像应用专家,开发阴极发光应用和持续改进阴极发光成像系统。
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