方案摘要
方案下载应用领域 | 半导体 |
检测样本 | 光电器件 |
检测项目 | |
参考标准 | DB35/T 1564—2016 |
年来国家鼓励国内半导体产业创新发展,打破国外垄断,实现技术自主,出台了一系列支持和引导该行业的政策法规。四氟化锗(GeF4)作为一种锗的氟化物,在半导体行业中用于掺杂和离子注入,结合乙硅烷气体,可以直接在玻璃基底上制造硅锗微晶,其潜在应用价值正越发受到国内外企业关注。在某GeF4生产工艺过程中,需要尽力去除产品气GeF4 中杂质HF气体,使其残留量值低于企业标准中的限量值(35ppm)。为了监测此工艺过程的效果,需要定量监测GeF4气体中的HF残留。含量范围大约0-500 ppm。
近年来国家鼓励国内半导体产业创新发展,打破国外垄断,实现技术自主,出台了一系列支持和引导该行业的政策法规。四氟化锗(GeF4)作为一种锗的氟化物,在半导体行业中用于掺杂和离子注入,结合乙硅烷气体,可以直接在玻璃基底上制造硅锗微晶,其潜在应用价值正越发受到国内外企业关注。在某GeF4生产工艺过程中,需要尽力去除产品气GeF4 中杂质HF气体,使其残留量值低于企业标准中的限量值(35ppm)。为了监测此工艺过程的效果,需要定量监测GeF4气体中的HF残留。含量范围大约0-500 ppm。
在线激光气体分析仪可根据气体分子对激光能量的“选频吸收”进行气体浓度的测量,实现HF含量的实时监测,定量监测范围可定制,在环境、安全监测中已有应用。上图为GeF4生产工艺过程的HF残留量监测方案,由于HF具有强腐蚀性无法用常规气相色谱监测,在线激光气体分析仪是HF残留的唯一解决方案。下图为某一批次GeF4生产工艺过程中HF残留实测图,可见HF残留量高达40 ppm以上,高于35 ppm企标限量值,为不合格产品。
激光气体分析系统灵敏度高,能够监测ppm量级的气体残留及含量值,也可以根据需求灵活定制。响应速度数秒内。定量检测精±1.0%F.S.,设备防腐蚀,适合工业生产应用,在氟化工的废气监测、泄露预警中也有应用。
原子发射光谱检测水体中重金属含量
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应用案例|鉴知光纤光谱仪在颜色测量中的应用
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