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应用? EM - SEM, SE和BSE模式、 SEM/FIB、TEM (特制) 扫描显微镜与表面轮廓仪- STM、AFM，图案高度为100nm光镜 – 透射、反射、明/暗场、相差、共焦
化学成像- EDS、WDS、XRF、XPS、Auger等，图案为100nm CrO2 和 Cr在石英上形成。
粒径计算- 含用于校准的系列圆、方形和矩形图案 图案设计
MRS-3由高精密度直写电子束制造设备所制，石英上的图案为抗反射的Cr。二次电子像和背散射电子像反差好。图案表面镀有特殊导电材料，使该标样适
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