产品详情
英国Durham小型台式无掩膜光刻机Microwriter ML3
小型台式无掩膜光刻系统是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发，为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。
传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供，但是在研发环境中，掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板 的方法，克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同，激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关，在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。
Microwriter ML 3 是一款多功能激光直写光刻系统，具有结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm)，无掩膜直写系统的灵活性，还拥有高直写速度，高分辨率的特点。采用集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便。适用于各种实验室桌面。
为了更好满足客户需求，同时节省客户采购成本，第三代Microwriter分为三个型号，基本型，增强型，旗舰型：
产品特点
Focus Lock自动对焦功能
Focus lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测，并通过Z向调整和补偿，
以保证曝光分辨率。
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光学轮廓仪
Microwriter ML3 配备光学轮廓探测工具，用于匀胶后沉积层，蚀刻层，MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。
Z向最高精度100 nm，方便快捷。
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标记物自动识别
点击“Bulls-Eye”按钮，系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。
标记物被识别后，将自动将其移动到显微镜中心位置。
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别直写前预检查
软件可以实时显微观测基体表面，并显示预直写图形位置。通过实时调整位置、角度，
直到设计图形按要求与有结构重合，保证直写准确。
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简单的直写软件
MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、
基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。
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Clewin 掩模图形设计软件
•可以读取多种图形设计文件（DXF, CIF, GDSII, 等）
•可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式
•书写范围只由基片尺寸决定
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直写分辨率1μm
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直写分辨率0.6μm
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微电极制备
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微结构制备
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微流通道制备
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深圳市蓝星宇电子科技有限公司为您提供英国Durham小型台式无掩膜光刻机Microwriter ML3 ，nullMicrowriter ML3 产地为英国，属于进口电子束曝光机，除了英国Durham小型台式无掩膜光刻机Microwriter ML3 的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供更多电子束曝光机,蓝星宇客服电话400-860-5168转4527，售前、售后均可联系。
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