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日本JEOL电子束光刻机JBX-3050MV
JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 最先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统?
产品规格:
产品特点:
· JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。
· 最先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。
· 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统
· 利用步进重复式曝光的优点,结合曝光剂量调整功能及重叠曝光等功能,能支持下一代掩模版/中间掩模版(mask/reticle)图形制作所需要的多种补偿。
深圳市蓝星宇电子科技有限公司为您提供日本JEOL电子束光刻机JBX-3050MV ,nullJBX-3050MV 产地为日本,属于进口电子束曝光机,除了日本JEOL电子束光刻机JBX-3050MV 的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多电子束曝光机,蓝星宇客服电话400-860-5168转4527,售前、售后均可联系。