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英国Oxford等离子去胶机(灰化)Plasma Stripper (Asher)
![](http://www.lxyee.net/Upload/images/1(41).png)
应用:从蚀刻晶圆片上移除光刻胶
流程配置: RIE/ICP
工作原理
。使用等离子体源,生成单原子反应种。
。氧是最常见的反应物质。反应性物质与光阻结合形成灰,
。用真空泵将其除去。
。ICP结构避免了高能离子轰击和电容耦合,
。提供低衬底损伤。
可用气体: O2, N2O
主要性能:
。开放式设计,可快速加载和卸载晶圆。
。基片放置在石英上,以避免溅射/再沉积电极材料
。通过顶部电极上的“莲蓬头”进气口将气体注入工艺室
。电感耦合等离子体(ICP)和电极的独立射频发生器提供对离子能量和离子密度的独立控制
。高电导泵浦端口提供高的气体吞吐量,以最快的腐蚀速率
。使用等离子体源,生成单原子反应种。氧是最常见的反应物质。
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