产品详情
芬兰PICOSUN 生产型原子层沉积机 P-200S Pro ALD
技术参数
衬底尺寸和类型：
。50 – 200 mm /单片
。156 mm x 156 mm 太阳能硅片
。150 mm x 150 mm 显示面板
工艺温度： 50 - 500 °C , 可选更高温度
基片传送选件 ：
。气动升降（手动装载）
。半自动装载，用PICOPLATFORM™200集群系统实现
。25片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM™200集群系统实现
标准： SEMI S2 认证（认证中）
前驱体：
。 液态, 固态, 气态, 臭氧源, 等离子体（最多4路气体）：
。前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务
。6根独立源管线，最多加载12个前驱体源（加上Plasma管路，共7根独立源管线）
重量 ：790 kg
尺寸 ：(W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm
可选件 ：集群工具, PICOFLOW™ 扩散增强器, 集成椭偏仪, QCM, RGA, N2发生器，尾气处理器，定制设计，与工厂软件连接服务。
验收标准 ：。标准设备验收标准为 Al2O3 工艺，
。其他工艺可具体协商：其他工艺、应用具体验收标准如：
- 不均匀性
- 颗粒物含量
- 重金属污染
- 电学性能
一个PICOPLATFORM™ 200真空集群系统由两台PICOSUN™ P-200S ALD设备组成，带等离子体源PICOPLASMA™。
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工商信息
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