产品详情
芬兰PICOSUN高级型原子层沉积机P-300 Advanced ALD
衬底尺寸和类型：
。156 mm x 156 mm硅片50～100片/批次（双面/背对背）
。高达300 mm x 300 mm玻璃基板10～20片/批次（双面/背对背）
。大批量的3D产品（例如：钟表部件，珠宝，硬币，医疗植入部件，机械部件等）
。粉末与颗粒
。Roll-to-roll, 衬底最大宽 300 mm
。多孔，通孔，与高深宽比（HAR）样品
工艺温度： 50 - 500 °C
基片传送选件：
。气动升降（手动装载）
。半自动装载，用线性装载器实现
。全自动转载，用工业机器人实现
前驱体 ：
。液态、固态、气态、臭氧源
。前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务
。4根独立源管线，最多加载6个前驱体源
重量： 400 + 300 kg
尺寸 ：(W x H x D) 149 cm x 191 cm x 111 cm
选件： PICOFLOW™ 扩散增强器，N2发生器，尾气处理器，定制设计，与工厂软件连接服务。
验收标准 ：标准设备验收标准为 Al2O3 工艺
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深圳市蓝星宇电子科技有限公司为您提供芬兰PICOSUN高级型原子层沉积机 P-300 Advanced ALD ，null P-300 Advanced ALD 产地为德国，属于进口原子层沉积设备，除了芬兰PICOSUN高级型原子层沉积机 P-300 Advanced ALD 的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供更多原子层沉积设备,蓝星宇客服电话400-860-5168转4527，售前、售后均可联系。
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