产品详情
芬兰PICOSUN高级型原子层沉积机P-300 Advanced ALD
衬底尺寸和类型:
。156 mm x 156 mm硅片50~100片/批次(双面/背对背)
。高达300 mm x 300 mm玻璃基板10~20片/批次(双面/背对背)
。大批量的3D产品(例如:钟表部件,珠宝,硬币,医疗植入部件,机械部件等)
。粉末与颗粒
。Roll-to-roll, 衬底最大宽 300 mm
。多孔,通孔,与高深宽比(HAR)样品
工艺温度: 50 - 500 °C
基片传送选件:
。气动升降(手动装载)
。半自动装载,用线性装载器实现
。全自动转载,用工业机器人实现
前驱体 :
。液态、固态、气态、臭氧源
。前驱源余量传感器,并提供清洗和装源服务
。4根独立源管线,最多加载6个前驱体源
重量: 400 + 300 kg
尺寸 :(W x H x D) 149 cm x 191 cm x 111 cm
选件: PICOFLOW™ 扩散增强器,N2发生器,尾气处理器,定制设计,与工厂软件连接服务。
验收标准 :标准设备验收标准为 Al2O3 工艺
![](http://www.lxyee.net/Upload/images/1(36).png)
深圳市蓝星宇电子科技有限公司为您提供芬兰PICOSUN高级型原子层沉积机 P-300 Advanced ALD ,null P-300 Advanced ALD 产地为德国,属于进口原子层沉积设备,除了芬兰PICOSUN高级型原子层沉积机 P-300 Advanced ALD 的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多原子层沉积设备,蓝星宇客服电话400-860-5168转4527,售前、售后均可联系。