型号: | SE 500adv |
产地: | 德国 |
品牌: | 德国SENTECH |
评分: |
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激光椭偏仪SE 500adv,
结合椭偏反射CER的SE 500adv
椭偏仪SE 500adv将激光椭偏仪和反射仪结合在一个系统中。这种组合允许零度反射法用于快速薄膜分析,并且允许透明膜以激光椭偏仪的亚埃精度将可测量的厚度范围扩展到25埃米,从而明确地确定厚度。
高性能、高可靠性,拥有业内最高测量精度。可测量两层膜厚度,或一层膜厚度和折射率。CER模式,可结合反射式膜厚仪和激光椭偏仪,给出测量数据。选件与SE400选件相同
迄今为止最简单易用的椭偏仪
• SE 500adv结合椭偏测量和反射测量
• 可消除椭偏测量对透明膜厚度的周期不确定性
• 膜厚测量范围可扩展至25000 nm.
• 激光波长632.8 nm
• 反射计光谱范围450 nm-920 nm
• 光斑直径80 μm
• 150 mm (z-tilt)样品台
• 角度计,可变入射角度,步进5°
• LAN连接电脑
CER组合椭偏仪SE 500advanced可作为激光椭偏仪,CER组合式椭偏仪或反射膜厚仪FTPadvanced操作。比常规激光椭偏仪有更好的适应性。
作为椭偏仪操作
单角度和多角度测量,可测量最多三层膜的厚度和光学参数,测量波长632.8nm,有最高的测量精度。
作为反射式膜厚仪FTPadvanced操作
白光正入射测量,可测量透明膜或弱吸收薄膜,厚度最大可达25μm。配置更先进的软件FTPexpert后能够测量多层膜。
作为CER组合椭偏仪操作
解决了透明膜的周期不确定性问题,并由于确定的膜厚周期,折射率测量精度显著增加。可测量透明膜的Cauchy系数。
技术指标:
Ψ,Δ精度,90°位置透射测量: | δ(Ψ)=0.002°, δ(Δ)=0.002° |
长时稳定性: | δ(Ψ)=±0.01°, δ(Δ)=±0.1° |
膜厚精度: | 0.1 Å for 100 nm SiO2 on Si |
折射率精度: | 5×10-4 for 100 nm SiO2 on Si |
精度定义为30次测量的标准差
长时稳定性为90°位置时24小时内测量的差值
选项
• 手动x-y样品台,行程50 mm
• Mapping地貌图扫描 (x-y, 最大200 mm, 真空吸附)
• 摄像选项,用于样品校准和表面监视
• 30 μm微细光斑
• 第二激光波长1550
• 自动对焦
• SIMULATION软件
厚度确定
椭偏测量和反射测量的结合允许通过自动识别循环厚度周期来快速且明确地确定透明膜的厚度。
宽的测量范围
激光椭偏仪和反射仪的结合将透明薄膜的厚度范围扩展到25μm,更多地取决于光度计的选项。
扩展激光椭偏仪的极限
性能优异的多角度手动角度计和角度精度优越的激光椭偏仪允许测量单层薄膜和层叠膜的折射率、消光系数和膜厚。
SE 500adv结合了椭偏仪和反射仪,除了测量透明膜层厚度的模糊性。它把可测量的厚度扩展到25m,因此SE 500adv扩展了标准激光椭偏仪SE 400adv的能力,特别适用于分析较厚的介质膜、有机材料、光阻、硅和多晶硅薄膜。
SE 500adv可作为激光椭偏仪、膜厚探针和CER椭偏仪使用。因此,它提供了标准激光椭偏仪从未达到的大灵活性。作为椭偏仪,可以进行单角度和多角度测量。当用作膜厚探针时,在正常入射下测量透明或弱吸收膜的厚度。
SE 500adv中的椭偏测量和反射测量的组合包括椭圆测量光学部件、角度计、组合反射测量头和自动准直透镜、样品台、氦氖激光光源、激光检测单元和光度计。
SE 500adv的选项支持在微电子、微系统技术、显示技术、光伏、化学等领域的应用。
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