| 型号： | EVG7200 |
| 产地： | 奥地利 |
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奥地利SmartNIL紫外纳米压印：EVG7200
一、设备原理：
EVG7200紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG720自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。
二、应用范围
纳米压印技术主要应用于如下方面：
LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。
三、主要特点及技术参数：
1、主要特点：
。 最大产量高达40wafers每小时；
。 紫外光曝光；
。配备专用的紫外纳米压印工具；
。 正面对准或者正反双面对准；
。适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体；
。硬紫外纳米压印，软紫外纳米压印、微接触压印。
2、技术参数
晶圆尺寸：最大200mm
大面积压印：最大200mm
产能：最大可到40wafers/小时
印章制备：支持工作模具制备，支持自动楔形脱模
曝光：曝光光源：高功率窄带曝光；波长：300-500nm, 光强：~ 400 mW/cm2，光强均匀性：20%（6寸）
对准模块：机械对位精度±200um，光学对位精度±3um
压印微结构尺寸范围：40nm-2um；
压印结构分辨率：≤40纳米
压印残留层厚度：≤20纳米
滚压印速度：2mm/s-16mm/s, 可以调节
图形保型度：≥90%
支持倾斜光栅压印，倾斜度45-90°
上料系统：3料盒台，现场可升级
SECS/GEM II: 可选。
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