型号: | EVG7200 |
产地: | 奥地利 |
品牌: | |
评分: |
![]() ![]() ![]() ![]() ![]() |
奥地利SmartNIL紫外纳米压印:EVG7200
一、设备原理:
EVG7200紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG720自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印,可以保证大面积纳米压印的均匀压力,从而保证获得很高的良率。
二、应用范围
纳米压印技术主要应用于如下方面:
LEDS 制作,LED PSS纳米压印工艺,LED纳米透镜阵列;微流体学;芯片实验室;抗反射层; 纳米压印光栅; 莲花效应;光子带隙;光学及通讯:光晶体,激光器件;生物技术解决方案:医药分析,血液分析,细胞生长。
三、主要特点及技术参数:
1、主要特点:
。 最大产量高达40wafers每小时;
。 紫外光曝光;
。配备专用的紫外纳米压印工具;
。 正面对准或者正反双面对准;
。适用衬底:Si,玻璃,化合物半导体;
。硬紫外纳米压印,软紫外纳米压印、微接触压印。
2、技术参数
晶圆尺寸:最大200mm
大面积压印:最大200mm
产能:最大可到40wafers/小时
印章制备:支持工作模具制备,支持自动楔形脱模
曝光:曝光光源:高功率窄带曝光;波长:300-500nm, 光强:~ 400 mW/cm2,光强均匀性:20%(6寸)
对准模块:机械对位精度±200um,光学对位精度±3um
压印微结构尺寸范围:40nm-2um;
压印结构分辨率:≤40纳米
压印残留层厚度:≤20纳米
滚压印速度:2mm/s-16mm/s, 可以调节
图形保型度:≥90%
支持倾斜光栅压印,倾斜度45-90°
上料系统:3料盒台,现场可升级
SECS/GEM II: 可选。
相关产品
关注
拨打电话
留言咨询