NANO-MASTER SWC单晶圆清洗系统SWC-3000,SWC-4000, SWC-5000

参考价：¥10万 - 20万

型号：	SWC-3000, SWC-4000, SWC-5000
产地：	美国
品牌：	那诺-马斯特
评分：

核心参数

产地类别：进口

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产品详情

NANO-MASTER SWC单晶圆清洗系

SWC-3000 台式单晶圆/掩膜版清洗系统

SWC-4000 立柜式单晶圆/掩膜版清洗系统

SWC-5000 带25片Cassette 机械手自动清洗

NANO-MASTER单晶圆清洗机（SWC）聚焦于提供最大可能性的清洗能力，同时维持可承担的拥有成本。标准系统配套有各种清洗能力，化学试剂清洗、刷子清洗、高转速旋转甩干带红外灯烘干和N2吹扫。专利技术的兆声喷嘴运动确保兆声能量的均匀传送；因此，在晶圆表面的任何点，被传送的能量可以保持在损伤阈值以内。

特点：

** 12" 外径圆片 7" x 7"方片
** 台式系统/独立式系统（SWC-4000）
** 文丘里动力真空
** 无损兆声
** 独立的化学试剂分布
** 带热氮的旋转甩干
** 微处理器控制，触摸屏编程和调用程序
** 化学试剂分布单元/4个3.8L的HDPE容器(SWC-4000)
** 双排放口分别用于酸和溶剂（SWC-4000）
** 回吸阀防止试剂滴漏（SWC-4000）
** 安全联锁
** 占地面积19”x26”

选配：

** PVA刷子清洗（100RPM）
** CMP后刷子清洗（转速最大到400RPM）
** 氮离子发生器
** 去离子水电阻率监控的CO2注入
** FM4910防火灾材料
** 背面去离子水清洗和干燥（SWC-4000）
** 嵌入式加热器用于去离子水或化学试剂（SWC-4000）
** 用于化学试剂盒DIW泄露检测的传感器（SWC-4000）

应用：

** 有图案或无图案掩模板及晶圆
** Ge，GaAs和InP晶圆清洗
** CMP后晶圆清洗
** 晶圆框架上的切割芯片清洗
** 等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗
** 掩模版白板或接触掩模板清洗
** X光和远紫外掩模板清洗
** 光学镜头清洗
** ITO涂覆的显示面板清洗
** 兆声辅助的剥离工艺

深圳市蓝星宇电子科技有限公司为您提供那诺-马斯特NANO-MASTER SWC单晶圆清洗系统SWC-3000,SWC-4000, SWC-5000，那诺-马斯特SWC-3000, SWC-4000, SWC-5000产地为美国，属于进口光学平台，除了NANO-MASTER SWC单晶圆清洗系统SWC-3000,SWC-4000, SWC-5000的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供更多光学平台,蓝星宇客服电话400-860-5168转4527，售前、售后均可联系。

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