TEM样品制备
样品形状(块材、薄膜、颗粒)、结构性质(紧密的、多空的)、化学性质(有机、无机)、物理性质(软的、硬的、有延展性的)、电学性质(导体、半导体、非导体)各不相同,如何选择合适的制样方法?
常备制样方法很多,例如:电解双喷、机械减薄、超薄切片、粉碎研磨、聚焦离子束、散焦离子束,各有优缺点,各有局限性,各种方法如何配合使用得到最好的效果?
SEM样品制备
EBSD样品离子束抛光
所有的EBSD样品制备方法都必须保证样品表面不能有任何划痕,因为划痕下面就是严重损伤。一个深的划痕意味着在其下面有一个深的变形存在。为了获得高质量的EBSD花样就必须去除这些划痕和其下面的损伤层。
从各种角度,用不同时间和加速电压进行的离子束抛光用于清洗增加衬度,比起费时费力的湿化学刻蚀方法是更为可取的。
三离子束制备截面样品
优点:
· 无污染
· 高质量平整切割截面
· 形变或损伤的可能性最低
· 直接用于SEM微区分析
内容截图
干货满满!
数码显微镜在微电子和电子行业的应用
汽车零部件表面缺陷的视觉检测--徕卡显微镜
金相微观结构图片
陶瓷基电路板切片制备
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