多功能磁增强反应离子刻蚀机0_价格-武汉赛斯特精密仪器有限公司

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多功能磁增强反应离子刻蚀机
设备参数：
    刻蚀材料：氧化硅、氮化硅及光刻胶灰化
    光刻胶做掩模刻蚀选择比：3:1
    不均匀性：<±5%（4英寸）
    RF功率：150 W
    射频源：13.56 MHz
    真空度:10-2Pa
    晶片尺寸：*大6 英寸
    反应气体： O2、Ar、CHF3、SF6

主要用途：

利用能与被刻蚀材料起化学反应的气体，通过辉光放电使之形成等离子体，对基底表面未被掩蔽部分进行刻蚀。主要用于刻蚀氧化硅、氮化硅材料等，形成微纳米结构。

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企业名称: 武汉赛斯特精密仪器有限公司
企业类型:
信用代码: 420102000505809
成立日期: 2016年06月17日
注册资本: 1000
经营范围: 仪器仪表及设备、检测仪器、分析仪器、电子工业专用设备、第一类、第二类医疗器械、电力设备、电气设备、实验设备及耗材、新能源电池检测仪器及设备、机电设备、机械设备、办公自动化设备、新能源设备、电脑设备及耗材、办公设备、监控设备、数码产品、电子产品的研发、销售、技术咨询、技术服务及售后服务；建筑材料、五金交电、化工产品（不含化学危险品）的销售；环境工程设计、施工；计算机软硬件系统设计及技术服务；货物或技术进出口（国家禁止或涉及行政审批的货物和技术进出口除外）。（依法须经审批的项目，经相关部门审批后方可开展经营活动）

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