MBE分子束外延系统
1.蒸镀源Cell&电源：
金属沉积蒸镀Cell
--zui大温度: < 1800℃
--坩埚容量和材料: up to 200 ccAl2O3, BN, PBN, etc
--包括超高真空shutterCooling shroud
电源：
--直流电源：20A, 100V
--温度控制：PID control 2.等离子体Cell&电源：
射频等离子体Cell
•坩埚材料：Alumina(Al2O3)
电源：300W射频发生器with matching box
质量流量控制器：N2 or O2 3.薄膜沉积控制：
•膜厚测量：石英晶体振荡器
•束流量：微离子规 4.RHHED枪&电源：
•配电功率： max. 30 kV at 1mA
•灯丝功率：max. 3A 5.真空室：
•圆柱形腔体
•直径: OD 355 ~1,000 mm (Substrate : up to OD600mm)
•高度: 700 ~1,000 mm
真空泵系统及测量
•低真空：干泵和Convectron真空规
•超高真空：两级涡轮分子泵，低温泵和离子规 6.系统控制：PLC, 触摸屏计算机控制 |
|
主要特点
扩展功能：
•温度控制器：基底加热
•LN2 or CW 冷却系统
•超高真空离子泵
•反射计：原位光学厚度测控
•带自动样品递送装置的Loadlock样品加载系统 |
|
武汉赛斯特精密仪器有限公司为您提供MBE分子束外延系统0，null0产地为其他，属于其它行业专用，除了MBE分子束外延系统的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供更多其它行业专用,武汉赛斯特客服电话，售前、售后均可联系。
工商信息
信息已认证
