芬兰PICOSUN 原子层沉积系统 R系列

芬兰PICOSUN 原子层沉积系统 R系列

参考价:¥100万 - 200万
型号: R系列
产地: 芬兰
品牌:
评分:
核心参数
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产品详情

PICOSUN拥有30多年在芬兰ALD反应器制造而得到的专业技术。Tuomo Suntola博士,于1974年发明了ALD技术,是PICOSUN董事会的成员。我们的首席技术官SVEN LINDFORS从1975年开始连续的设计ALD系统。综合起来讲,PICOSUN拥有了200多年的ALD经验并贡献了100多项ALD专利。我们悠久的历史和广泛的背景使PICOSUN成为ALD技术优质的合作伙伴。



技术参数:



技术指标 
SUNALE™ R系列技术特点 

基本特点: 
晶片尺寸 2-6”, 50-150 mm (8’’ = 200 mm on request) 
工艺温度 Up to 500°C 

反应室体积 小型、中型、大型 
反应室材料 316 SS, Ti, Ni, Al (quartz) 
前驱体 2-6 气体 / 气体 / 固体 

基片装载 气体升降 


尺寸: 
尺寸 27.6 x 41.3 x 36.4’’, 70 x 105 x 92.5 cm (W x H x D) 
重量 200 kg 



工况: 
电源 100-240 V, 50/60 Hz, 1- or 3-phase, 3.7 kW Vac 
真空泵 30-80 m3/h 
载气 99.999 % N2 / Ar, min. 2 slm 

压缩空气 4-5.5 bar 过压 
冷却水 反应器不需要 

排气 为真空泵及源橱柜配备 

样品装载选项: 
Picoloader™手动样品装载系统,带一个预真空室和闸阀



主要特点:

特点 
多功能的反应器设计 
全套的服务


深圳市科时达电子科技有限公司为您提供芬兰PICOSUN 原子层沉积系统 R系列,nullR系列产地为芬兰,属于进口原子层沉积设备,除了芬兰PICOSUN 原子层沉积系统 R系列的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多原子层沉积设备,Kesda客服电话400-860-5168转4967,售前、售后均可联系。

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