型号: | 离子体沉积系统 |
产地: | 安徽 |
品牌: | 泽攸科技 |
评分: |
![]() ![]() ![]() ![]() ![]() |
泽攸科技 等离子体增强化学气相沉积系统(PECVD),符合CE认证标准的三温区CVD系统,生长样品腔的管径60-120mm,它是由高温管式炉、多路高精度流量控制与供气系统、机械泵、真空密封及测量系统、尾气处理系统组成,极限真空度可达 10^-5 torr 。
主要特点:
1,优势在于各种薄膜材料、低维纳米材料等的制备(尤其适用于过渡金属二维半导体材料的生长与原位掺杂,以及多元二维材料的生长)
2,可选配远程等离子射频发生系统,可用于各种薄膜材料、低维纳米材料等的等离子体辅助生长、刻蚀加工与材料表面修饰(尤其适用于石墨烯、氮化硼等二维材料的无催化生长,缺陷调控,以及器件制作工艺中的残胶去除)
3,生长工艺设计先进,能满足任意衬底无催化生长
4,应用案例(点击跳转)
设备主要技术参数
温控参数 | 单位 | |
温度 | 1200 | ℃ |
功率 | 6.5 | kw |
温控精度 | ±1 | ℃ |
真空系统 | ||
真空泵 | 1 x 10-3 (7.5 x 10-4) | mbar (Torr) |
真空泵(开气镇) | 1.5 x 10-2 (1.1 x 10-2) | mbar (Torr) |
真空泵(使用PEPE 油) | 1 x 10-2(7.5 x 10-3) | mbar (Torr) |
腔体内真空度 | 优于2.0*10-2 | Torr |
流量控制参数 | ||
泄露率 | <4×10-9 | atm-cc/secHe |
分辨率 | 全量程的0.1% | |
响应时间气特性 | <2 | s |
响应时间电特性 | 500 | ms |
尾气吸收参数 | ||
材质 | 壳体铝合金、不锈钢 | |
吸气腔 | 聚四氟乙烯 | |
等离子体系统参数 | ||
功率输出 | 5 – 300,5 – 500 | W |
信号频率 | 13.56 ±0.005% | MHz |
反射功率 | 200 | W |
功率稳定度 | ±0.1% | |
谐波分量 | ≤-50 | dbc |
供电电压 | 187V – 253V —- 频率50/60HZ |
以上就是东莞市卓聚科技有限公司提供的等离子体增强化学气相沉积系统(PECVD)的介绍,了解更多直接咨询:
随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展,精密定位不仅在实验室用途广泛,工业界的应用也越来越多。该团队在以往研究基础上,发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品,填补了国产空白。
一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块,通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移,可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前,在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内,团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台。
相关产品
关注
拨打电话
留言咨询