RIE等离子刻蚀系统

RIE等离子刻蚀系统

参考价:面议
型号: RIE-200NL
产地: 日本
品牌: SAMCO
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1. 产品概述

RIE-200NL是一种负载锁定型的反应离子蚀刻系统,它提高了工艺的可重复性,并允许腐蚀性气体化学。完全优化的工艺室设计可在ø8 "晶圆或ø220mm小晶圆的载盘上提供优异的均匀性。该系统可实现精确的侧壁轮廓控制和材料之间的高蚀刻选择性。RIE-200NL设计时尚、紧凑,只需小的洁净室空间。

2. 设备用途/原理

大加工范围:ø220 mm (ø3" x 5, ø4" x 3, ø8" x 1)对称的排空设计提高了蚀刻的均匀性。工艺室通过负荷锁定室与环境隔离,提高了工艺的可重复性,并可进行腐蚀性气体的化学反应。计算机触摸屏为参数控制和存储提供了一个用户友好的界面。自动压力控制,可精确控制工艺压力,不受气体流量影响。干式泵和系统布局便于维护。RIE-200NL设计时尚、紧凑,只需小的洁净室空间

3. 设备特点

GaN、GaAs、InP等化合物半导体的氯基蚀刻。各种材料的蚀刻,如Si、SiO2、SiN、Poly-Si、Al、Mo、Pt、Polyimide等。故障分析中的选择性层蚀刻


深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供SAMCORIE等离子刻蚀系统RIE-200NL,SAMCORIE-200NL产地为日本,属于进口湿法腐蚀/刻蚀设备,除了RIE等离子刻蚀系统的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多湿法腐蚀/刻蚀设备,客服电话400-860-5168转5919,售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期: 60天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

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