Plasma-Therm沉积设备PECVD / HDPCVD

Plasma-Therm沉积设备PECVD / HDPCVD

参考价：面议
型号： pecvd
产地： 美国
品牌： Plasma-Therm
评分：
核心参数
南通宏腾微电子技术有限公司
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产品详情

  Plasma-Therm是致力于PECVD/HDPCVD/RIE/ICP/DSE的世界知名设备提供商， 产品涵盖2”~ 12”主流干法刻蚀/PECVD工艺，广泛应用于半导体、MEMS、三五族(GaAs / SiC / CPV)、LED、SOI及半导体后段TSV领域
 
仪器简介：

  • 2”~12” 手动 / 半自动 / 全自动(片盒对片盒)

  • 领域 : 半导体前后段 / MEMS / 三五族(GaAs / SiC / CPV) / LED / SOI / TSV

  • 制程 : PECVD / HDPCVD / RIE / ICP / DSE

 
特点:

  • Plasma-Therm公司有将近40年研发及制造干法刻蚀/PECVD设备的历史

  • Plasma-Therm设备具有高稳定性与高可靠度

  • Plasma-Therm自有的软硬件设计及完善QC系统

  • Plasma-Therm设备配置灵活，包含手动、半自动、全自动(片盒对片盒)型号满足实验室研发及量产客户需求

  • Plasma-Therm设备在行业内高占有率：目前世界范围内装机数量超过1600台

  • Plasma-Therm PECVD设备：具有良好的uniformity(3%)和温度控制技术

  • Plasma-Therm RIE / ICP设备：具有高刻蚀速率，低损伤, 良好的温度均匀性控制(独有的整个反应腔陶瓷加热技术)，方便的腔体清洁技术以及灵敏的刻蚀断点监测技术

  • Plasma-Therm DES设备：应用于MEMS及TSV领域，主要用于高深宽比刻蚀, morphing技术确保侧壁的profile的精确控制,快速气体切换技术（专利）确保刻蚀的侧壁平滑，独有的压力控制技术（专利），高灵敏的刻蚀断点监测技术

  • Plasma-Therm连续15年被VLSI评为10 Best设备供应商

应用领域：

  • 半导体：

  • 三五族(GaAs / SiC / CPV)

  • MEMS / SOI

  • LED

  • 半导体后段及TSV


南通宏腾微电子技术有限公司为您提供Plasma-Therm沉积设备PECVD / HDPCVDpecvd，Plasma-Thermpecvd产地为美国，属于进口化学气相沉积设备，除了Plasma-Therm沉积设备PECVD / HDPCVD的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供更多化学气相沉积设备,宏腾微电子设备客服电话400-860-5168转6134，售前、售后均可联系。

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售后服务
  • 产品货期： 200天
  • 培训服务： 安装调试现场免费培训

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