型号: | HEX-2 |
产地: | 英国 |
品牌: | Korvus Technology |
评分: |
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n产品简介
HEX型PVD镀膜系统采用模块化的设计理念,一套系统可同时进行磁控溅射镀膜,热蒸发镀膜及电子束蒸发镀膜,并且可以兼容手套箱使用,特别适用于科研客户高质量镀膜应用。
n产品特性:
- 模块化设计,可根据用户应用需求更换,真空腔体也可以模块化组合
- 兼容磁控溅射,电子束蒸发,热蒸发多种沉积技术
- 适用于科研用户
- 可与手套箱集成
- 占地面积小
n主要指标:
- 模块化设计,由快速可拆换的六块独立板面形成真空腔室 (盲板、可视窗口、溅射源窗口、QCM窗口)
- 四种溅射源:磁控溅射;电子束蒸发源 、热蒸发、有机物蒸发源
- 抽真空速度快 (20分钟内达到 5*10-6Torr)
- 适用于6英寸及以下尺寸样品
- 多种工作台可选,可选配 2-20 rpm旋转台、500℃加热台,水冷台、直流偏压等
- 可集成膜厚测量功能,
- 兼容手套箱系统
- 可配备快速进样腔(选配)
- 可配备原位监测选件:热成像,原位等离子体谱,石英晶振
- 系统占地空间小,约1m2
n主要应用
- 化学催化
- 电极薄膜制备
- 金属半导体薄膜制备
- 磁性薄膜制备
- 微纳米器件
- 光学器件
PVD热源简介
(1)FISSION磁控溅射源
- 靶材尺寸:50mm(2”)
- 最大靶材膜厚:6mm(1mm厚强磁体)
- 直流电源:780W(600V,1.3A)
- 射频电源:300W(13.56MHz)
- 气体补偿:通过内置气罩
- 冷却:水冷(最小0.5L/min)
(2)TAU电子束蒸发器
- 工艺腔热源数:4个
- 工艺腔单个热源最大功率:250W
- 蒸发材料:圆棒(最大直径4mm)或置于坩埚中
- 是否支持同时蒸镀:支持
- 冷却:水冷(最小0.5L/min)
(3)ORCA有机材料沉积源
- 坩埚容积:15cc
- 温度范围:50-600℃
- 热电偶:K型
- 电源:直流
- 冷却:水冷(最小0.5L/min)
(4)TES舟型热蒸发源
- 舟型载体容积:1cc-5cc
- 温度范围:50℃-2200℃
- 电源:直流(1.2kW)
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