型号: | baby |
产地: | 德国 |
品牌: | POLOS |
评分: |
|
小型台式无掩膜光刻机- MicroWriter ML3
小型台式无掩膜光刻机- MicroWriter ML3是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发,为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。
传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供,但是在研发环境中,掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板的方法,克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同,激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关,在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。
MicroWriter ML3 是一款多功能激光直写光刻系统,具有结构小巧紧凑(70cm x 70cm x 70cm),无掩膜直写系统的灵活性,还拥有高直写速度,高分辨率的特点。采用集成化设计,全自动控制,可靠性高,操作简便。适用于各种实验室桌面。
产品特点
Focus Lock自动对焦功能 | 光学轮廓仪 |
标记物自动识别 | 直写前预检查 |
简单的直写软件 | Clewin 掩膜图形设计软件 |
产品参数
MicroWriter ML3 | 基本型 | 增强型 | 旗舰型 |
大样品尺寸 | 155×155×7mm | 155×155×7mm | 230×230×15mm |
大直写面积 | 149mm x 149mm | 149mm x 149mm | 195mm x 195mm |
曝光光源 | 405 nm LED 1.5W | 405 nm LED 1.5W | 385 nm LED 适用于SU-8 |
直写分辨率 | 1μm | 1μm and 5 μm | 0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm |
直写速度 | 20mm2/min @ 1μm | 20mm2/min @ 1μm | 25mm2/min @ 0.6μm |
对准显微镜镜头 | x10 | x3 and x10 自动切换 | x3, x5, x10, x20 自动切换 |
多层套刻精度 | ±1μm | ±1μm | ±0.5μm |
小栅格精度 | 200nm | 200nm | 100nm |
样品台小步长 | 100nm | 100nm | 50nm |
光学轮廓Z分辨率 | 无(可升) | 300nm | 100nm |
样品表面自动对焦 | 是 | 是 | 是 |
灰度直写(255) | 是 | 是 | 是 |
自动晶片检查工具 | 无(可升) | 有 | 有 |
温控样品腔室 | 无(可升) | 无(可升) | 有 |
气动减震光学平台 | 无(可升) | 无(可升) | 有 |
应用案例
0.4 μm特征线宽曝光结果
直写分辨率0.1μm
直写分辨率0.6μm
灰度直写
微结构/微器件/微电制备
相关产品
等离子浸没式离子注入机IBS
中束流离子注入 法国IBS
离子注入机/设备 法国IBS FLEXion 400-SiC
法国IBS SiC中束流离子注入 FLEXion 200/400
法国IBS IMC210中束流离子注入
CSC 日本 Bridgman 炉子1800度(单晶炉)
日本CSC 高温高压光浮区单晶炉(常规)
日本CSC光学浮区拉晶炉(轴封:o型密封圈)高功率单晶炉
德国高压Bridgman单晶生长炉1100度300bar
德国SciDre两区Bridgman单晶生长炉1100度低压
德国Bridgman单晶炉1900度(电阻加热)
德国SciDre激光高压光学浮区炉 LFZ紧凑型单晶炉
JFP手动 & 半自动引线键合机
扫描型开尔文探针 功函数测试
气氛开尔文探针系统KP
关注
拨打电话
留言咨询