资料摘要
资料下载高真空热蒸发镀碳仪全自主支持产权，效率更高、颗粒更细，膜厚更均匀。适用于EDS样品制备；EBSD样品制备；MLA系统样品制备；其它需要制备碳膜的领域。
文献贡献者
GVC-2000P 磁控离子溅射仪
简介：GVC-2000P磁控离子溅射仪采用平面磁控溅射靶头进行靶材溅射，以确保工作过程样品不会发生热损伤；采用ARM作为处理器，全自主知识产权，扩展性好，可选配。
GVC-5000T高真空多功能镀膜仪
简介：GVC-5000T镀金镀碳一体机(高真空多功能镀膜仪)双组件设计、防污挡板设计、一键切换工作模式、镀膜效率高、颗粒度小、可镀所有金属膜和ITO导电膜。
GVC-2000T高真空磁控离子溅射仪
简介：高真空磁控离子溅射仪集成化了 LCD 触摸显示屏操作界面，有利于实际操作。外接机械泵（随附）可完成迅速真空泵，进而为大部分规范SEM剖析给予充足的涂层晶体规格。
GVC-1000全自动离子溅射仪宣传页
简介：GVC-1000 全自动离子溅射仪主要应用于配套扫描电镜的样品制备工作，同时可以满足不同用户对样品涂层的制备要求。拥有优秀的溅射系统，可以更换不同的金属靶材（金，铂，银，铱，铬，铜等），实现高要求的细粒涂层。
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