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速普仪器发布【SuPro】离子清洗仪IC150新品

导读:近日,深圳市速普仪器有限公司在仪器信息网发布【SuPro】离子清洗仪IC150新品

速普仪器发布【SuPro】离子清洗仪IC150新品

采用进口品牌高性能真空干泵产生一个洁净的< 50 Pa的真空压强,通常抽真空时间小于2-3分钟。采用高品质恒功率RF射频电源,确保工艺重复性。感应射频放电模式也大幅降低等离子体对样品的热影响和离子轰击损伤。特别适用于对温度或轰击敏感的TEM或SEM生物样品进行清洗、表面活化、亲水化等用途。触摸屏自动控制,即插即用。

速普仪器发布【SuPro】离子清洗仪IC150新品

创新点:

1.采用高性能无油隔膜泵,抽真空及等离子处理过程中不会产生二次有机污染物; 2.采用ICP远程离子源,使等离子体严格束缚于离子源表面,达到样品表面起清洗作用的是氧活性原子及臭氧分子; 3.清洗或活化过程是纯化学反应过程(没有物理溅射作用);即与样品表面有机污染物(碳氢化合物)发生化学反应,生成CO2,CO,H2O并被真空泵组抽出;最终实现样品表面有机污染物清洗之目的。

【SuPro】离子清洗仪IC150

来源于:仪器信息网

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速普仪器发布【SuPro】离子清洗仪IC150新品

采用进口品牌高性能真空干泵产生一个洁净的< 50 Pa的真空压强,通常抽真空时间小于2-3分钟。采用高品质恒功率RF射频电源,确保工艺重复性。感应射频放电模式也大幅降低等离子体对样品的热影响和离子轰击损伤。特别适用于对温度或轰击敏感的TEM或SEM生物样品进行清洗、表面活化、亲水化等用途。触摸屏自动控制,即插即用。

速普仪器发布【SuPro】离子清洗仪IC150新品

创新点:

1.采用高性能无油隔膜泵,抽真空及等离子处理过程中不会产生二次有机污染物; 2.采用ICP远程离子源,使等离子体严格束缚于离子源表面,达到样品表面起清洗作用的是氧活性原子及臭氧分子; 3.清洗或活化过程是纯化学反应过程(没有物理溅射作用);即与样品表面有机污染物(碳氢化合物)发生化学反应,生成CO2,CO,H2O并被真空泵组抽出;最终实现样品表面有机污染物清洗之目的。

【SuPro】离子清洗仪IC150