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中科院半导体所800万采购相关设备

导读:8月5日,中国科学院半导体研究所发布厚膜掺杂等离子体增强淀积设备、高质量离子束溅射镀膜系统采购项目公开招标公告,预算金额800万元。

8月5日,中国科学院半导体研究所发布厚膜掺杂等离子体增强淀积设备、高质量离子束溅射镀膜系统采购项目公开招标公告,预算金额800万元。

项目编号:OITC-G200331121

项目名称:中国科学院半导体研究所厚膜掺杂等离子体增强淀积设备、高质量离子束溅射镀膜系统采购项目

预算金额:800.0 万元(人民币)

最高限价(如有):800.0 万元(人民币)

采购需求:

包号          货物名称 数量(台/套)是否允许采购进口产品采购预算(万元人民币)
1厚膜掺杂等离子体增强淀积设备1
221
2高质量离子束溅射镀膜系统1579


来源于:仪器信息网

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8月5日,中国科学院半导体研究所发布厚膜掺杂等离子体增强淀积设备、高质量离子束溅射镀膜系统采购项目公开招标公告,预算金额800万元。

项目编号:OITC-G200331121

项目名称:中国科学院半导体研究所厚膜掺杂等离子体增强淀积设备、高质量离子束溅射镀膜系统采购项目

预算金额:800.0 万元(人民币)

最高限价(如有):800.0 万元(人民币)

采购需求:

包号          货物名称 数量(台/套)是否允许采购进口产品采购预算(万元人民币)
1厚膜掺杂等离子体增强淀积设备1
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