导读:8月5日,中国科学院半导体研究所发布厚膜掺杂等离子体增强淀积设备、高质量离子束溅射镀膜系统采购项目公开招标公告,预算金额800万元。
8月5日,中国科学院半导体研究所发布厚膜掺杂等离子体增强淀积设备、高质量离子束溅射镀膜系统采购项目公开招标公告,预算金额800万元。
项目编号:OITC-G200331121
项目名称:中国科学院半导体研究所厚膜掺杂等离子体增强淀积设备、高质量离子束溅射镀膜系统采购项目
预算金额:800.0 万元(人民币)
最高限价(如有):800.0 万元(人民币)
采购需求:
包号 | 货物名称 | 数量(台/套) | 是否允许采购进口产品 | 采购预算(万元人民币) |
1 | 厚膜掺杂等离子体增强淀积设备 | 1 | 是 | 221 |
2 | 高质量离子束溅射镀膜系统 | 1 | 是 | 579 |
来源于:仪器信息网
热门评论
最新资讯
新闻专题
更多推荐