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这台仪器的中国制造为何需要至少再等10年?

导读:上个世纪八十年代,全世界至少有Phillip、Nikon、GCA、Ultratech、Eaton、P&E、Canon、Hitachi等在进行光刻机的生产制造。

IBM高级副总裁形容它“绝对是人类制造的最复杂机器”,华尔街投资巨头Evercore的一位分析师表示,生产它的企业是“你从未听说过的最重要的公司”,它被纽约时报形容为“科技冷战中中国无法企及的‘最复杂机器’”。

——ASML极紫外(EUV)光刻机

上个世纪八十年代,全世界至少有Phillip、Nikon、GCA、Ultratech、Eaton、P&E、CanonHitachi等在进行光刻机的生产制造,而到了2021年,全球领先的光刻机的制造商基本只剩下ASML、Nikon、Canon等。据某研究院数据,2020年,ASML、Nikon、Canon的集成电路用光刻机出货量总计413台,相比2019年有15%的涨幅。

ASML生产的最先进的极紫外(EUV)光刻机,全球大约只有100台,ASML一年最多只能生产约50台。这些设备主要供给世界上最大的芯片制造商,包括韩国的三星和台湾的台积电(TSMC)。极紫外(EUV)光刻机本身的大小和形状与一辆公共汽车差不多,成本超过1.5亿美元,将其运送给客户需要40个集装箱、20辆卡车和三架波音747。在这台世界最先进设备上,集合了全球最顶尖的零部件,不但有德国蔡司提供的高端光学元件、美国Cymer公司的先进光源、荷兰飞利浦的干涉仪,还有法国的阀件和瑞典的轴承等。

该设备历时数十年开发并于2017年投入量产,ASML在研发极紫外(EUV)技术阶段花费了至少90亿美元。因为半导体行业集成电路单位面积晶体管数量越来越受到限制,而极紫外(EUV)技术可以在计算机芯片上蚀刻尽可能小的电路,从而让世界顶级芯片制造商保持其国际竞争力。

乔治城大学安全与新兴技术中心的研究分析师威尔亨特表示,如果没有该系统,制造商就无法生产领先的芯片,“它只能由荷兰公司ASML制造”“中国至少要十年才能建造自己的类似设备”。

ASML在2021年的员工总数约为28000人,来自约120个国家,在全球60个地点工作。在新冠全球大流行之前,ASML每月雇用300多人。目前,新员工的比例有所下降,但目前该公司的就业门户网站上列出了大约1000个职位,而且ASML所需要的专业技术有些都是我们之前从未听说过的。

发布的新工作包括:

•高级网络情报分析师

•光机械建筑师

•DUV SMP传感器项目经理

当然,还有ASML也在招聘如客户支持工程师等传统的职位。

中国在光刻机领域由于起步较晚,在高端光刻机的研发上远落后于国外,因此当前高端光刻机面临被“卡脖子”的窘境。目前中国的光刻机巨头只有一家,就是成立于2002年的上海微电子装备(集团)股份有限公司(简称SMEE)。

上海微电子装备(集团)股份有限公司主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。在国内中端先进封装光刻机和LED光刻机市场,上海微电子独占80%的市场份额,2020年出货量约60多台。相较于1984年着手研发光刻机的ASML,上海微电子的起步晚了近20年,但不同于ASML的“组装机”,上海微电子研发的光刻机完全自主研发,具备自主知识产权。即使如此,有国外分析人士称,我国想在高端光刻机制造上达到ASML当前的水平,至少要花10年的时间和最少10000亿美元的投入。


相关仪器与技术,请点击专场 : 光刻机

来源于:仪器信息网

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IBM高级副总裁形容它“绝对是人类制造的最复杂机器”,华尔街投资巨头Evercore的一位分析师表示,生产它的企业是“你从未听说过的最重要的公司”,它被纽约时报形容为“科技冷战中中国无法企及的‘最复杂机器’”。

——ASML极紫外(EUV)光刻机

上个世纪八十年代,全世界至少有Phillip、Nikon、GCA、Ultratech、Eaton、P&E、CanonHitachi等在进行光刻机的生产制造,而到了2021年,全球领先的光刻机的制造商基本只剩下ASML、Nikon、Canon等。据某研究院数据,2020年,ASML、Nikon、Canon的集成电路用光刻机出货量总计413台,相比2019年有15%的涨幅。

ASML生产的最先进的极紫外(EUV)光刻机,全球大约只有100台,ASML一年最多只能生产约50台。这些设备主要供给世界上最大的芯片制造商,包括韩国的三星和台湾的台积电(TSMC)。极紫外(EUV)光刻机本身的大小和形状与一辆公共汽车差不多,成本超过1.5亿美元,将其运送给客户需要40个集装箱、20辆卡车和三架波音747。在这台世界最先进设备上,集合了全球最顶尖的零部件,不但有德国蔡司提供的高端光学元件、美国Cymer公司的先进光源、荷兰飞利浦的干涉仪,还有法国的阀件和瑞典的轴承等。

该设备历时数十年开发并于2017年投入量产,ASML在研发极紫外(EUV)技术阶段花费了至少90亿美元。因为半导体行业集成电路单位面积晶体管数量越来越受到限制,而极紫外(EUV)技术可以在计算机芯片上蚀刻尽可能小的电路,从而让世界顶级芯片制造商保持其国际竞争力。

乔治城大学安全与新兴技术中心的研究分析师威尔亨特表示,如果没有该系统,制造商就无法生产领先的芯片,“它只能由荷兰公司ASML制造”“中国至少要十年才能建造自己的类似设备”。

ASML在2021年的员工总数约为28000人,来自约120个国家,在全球60个地点工作。在新冠全球大流行之前,ASML每月雇用300多人。目前,新员工的比例有所下降,但目前该公司的就业门户网站上列出了大约1000个职位,而且ASML所需要的专业技术有些都是我们之前从未听说过的。

发布的新工作包括:

•高级网络情报分析师

•光机械建筑师

•DUV SMP传感器项目经理

当然,还有ASML也在招聘如客户支持工程师等传统的职位。

中国在光刻机领域由于起步较晚,在高端光刻机的研发上远落后于国外,因此当前高端光刻机面临被“卡脖子”的窘境。目前中国的光刻机巨头只有一家,就是成立于2002年的上海微电子装备(集团)股份有限公司(简称SMEE)。

上海微电子装备(集团)股份有限公司主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。在国内中端先进封装光刻机和LED光刻机市场,上海微电子独占80%的市场份额,2020年出货量约60多台。相较于1984年着手研发光刻机的ASML,上海微电子的起步晚了近20年,但不同于ASML的“组装机”,上海微电子研发的光刻机完全自主研发,具备自主知识产权。即使如此,有国外分析人士称,我国想在高端光刻机制造上达到ASML当前的水平,至少要花10年的时间和最少10000亿美元的投入。