ULVAC-PHI推出面向电池研发的自动化和多功能扫描XPS——PHI GENESIS

ULVAC-PHI 将集成每一种对电池研发至关重要的表面分析技术到一个先进的自动化平台中，通过薄膜和界面表征为电池性能和寿命做出贡献。

日本茅崎市, 2022 年 7 月 5 日 - ULVAC-PHI公司推出了 PHI GENESIS，这是一种自动化和多功能扫描 X 射线光电子能谱仪（XPS：X-ray Photoelectron Spectroscopy或 ESCA：Electron Spectroscopy for Chemical Analysis）。 PHI GENESIS 是 PHI 多功能扫描 XPS 仪器的统一模型，旨在实现自动化和简化操作。

背景

全固态电池、先进半导体、人工光合作用等先进材料是复杂的材料结合，它们的研发需要加快优化每种材料的性能以及材料结合。可以显着加速此类研究和开发的高性能和高度功能化表界面分析需求日益增长。 ULVAC-PHI 开始提供一种新的表面分析系统，该系统不仅具有极高的基本性能，而且高度自动化，可满足全球客户的各种个性化要求。解决方案就是 ULVAC-PHI 的新型“PHI GENESIS”扫描 X 射线光电子能谱仪 (XPS)。

总结

“PHI GENESIS”XPS 是结合了 PHI 表面分析仪器的核心“GENESIS”的新产品，该仪器具有 50 年的先进自动化和缩短分析时间的传承，具有可扩展性，并在紧凑型中提供压倒性的基本性能。

“PHI GENESIS”XPS 通过自动多样品分析和自动样品交换提供高速、高灵敏度和压倒性的微型 XPS 分析性能。具有更高计数率的高灵敏度分析仪也有助于提高性能。迄今为止，ULVAC-PHI 和 ULVAC-PHI 的子公司 Physical Electronics USA 开发了各种世界首创的 XPS 分析技术，包括扫描微型 XPS 和 HAXPES（硬 X 射线光电子能谱，hard x-ray photoelectron spectroscopy）、全自动机器人 XPS 分析、全自动绝缘中和分析，使用簇蚀刻离子枪对有机材料进行深度剖析。所有这些技术都集成在一台仪器中，可以为包括金属、半导体、陶瓷和有机材料在内的各种材料提供最先进的 XPS 分析技术。

PHI GENESIS 的另一个新功能是一个新的软件包，其设计易于使用，适用于所有级别的用户，从表面分析初学者到训练有素的科学家，从制造到尖端研发。我们还准备了几个选配，使客户能够执行以前需要复杂分析设备（例如典型实验室环境中的大型同步加速器）的高级分析。

PHI GENESIS与当今最先进的复合固体材料和复合固体装置的分析完全兼容，旨在作为加速研发不可或缺的分析仪器主导全球市场。

关于 ULVAC-PHI公司

ULVAC-PHI, Incorporated 成立于 1982 年，为全球大学和前沿行业提供先进的表面分析仪器进行研发。该公司为金属、聚合物、半导体、电池、有机和无机设备以及微电子等材料和设备提供基于表面分析技术的综合解决方案。

X 射线光电子能谱 (XPS)

XPS（X射线光电子能谱）是最流行的表面化学分析技术之一，可以提供固体表面顶部几个原子层的化学信息。 XPS 可以通过评估光电子的能量和强度来提供关于固体表面的定性和定量化学信息。 XPS 提供给大学和工业研究机构以及用于质量控制和质量保证目的，同时它在分析表面和界面现象（如着色、粘附、滑动、催化剂、薄膜界面和电接触）方面表现出出色的功能。.