本图片来自深圳市矢量科学仪器有限公司提供的8英寸立式炉,型号为FLOURIS 201系列 的北方华创半导体行业专用仪器设备,产地为中国大陆北京,属于品牌,参考价格为面议,公司还可为用户供应高品质的多功能溅射、电子束和热蒸发沉积平台、激光椭圆仪等仪器。
深圳市矢量科学仪器有限公司是仪器信息网的银牌,合作关系长达2年,工商信息已通过人工核验,获得仪信通诚信认证,
深圳市矢量科学仪器有限公司客服电话:400-860-5168转5919,请放心选择!
查看 8英寸立式炉 信息
同类推荐
看了单晶炉的用户又看了
单晶炉
单晶炉
单晶炉
单晶炉
区熔晶体生长系统
区熔晶体生长系统
区熔晶体生长系统
硅芯炉
物理气相传输系统
垂直梯度凝固法系统
德国SciDre激光高压光学浮区炉 LFZ紧凑型单晶炉
德国SciDre两区Bridgman单晶生长炉1100度低压
德国高压Bridgman单晶生长炉1100度300bar
日本CSC光学浮区拉晶炉(轴封:o型密封圈)高功率单晶炉
日本CSC 高温高压光浮区单晶炉(常规)
CSC 日本 Bridgman 炉子1800度(单晶炉)
激光加热基座晶体生长炉 法国Cyberstar
高温熔炼和晶体生长电弧炉 法国ECM
德国Bridgman单晶炉1900度(电阻加热)
中科微电子 单晶炉DJL210S
高密度刻蚀机
8英寸通用物理气相沉积系统
半导体光掩模光刻机
精密光学用镀膜系统
立式/卧式管舟清洗设备
12英寸金属刻蚀机
ICP刻蚀机
铝物理气相沉积系统
12英寸通用物理气相沉积系统
等离子化学气相沉积系统
高密度等离子体化学气相沉积系统
12英寸立式低温退火炉
12英寸单片清洗设备
12英寸单片清洗设备
12英寸槽式清洗设备
8英寸槽式清洗设备
芯片刻蚀机
溅射系统
溅射系统
倒片机
倒片机
原子层沉积(ALD)系统
无针孔薄膜沉积设备
化学气相沉积 (PECVD) 设备
化学气相沉积 (PECVD) 系统
化学气相沉积(PECVD)系统
化学气相沉积等离子体CVD系统
等离子体增强型CVD系统
等离子体增强CVD系统
等离子体增强CVD系统
高温熔炼和晶体生长电弧炉 法国ECM
激光加热基座晶体生长炉 法国Cyberstar
CSC 日本 Bridgman 炉子1800度(单晶炉)
日本CSC 高温高压光浮区单晶炉(常规)
日本CSC光学浮区拉晶炉(轴封:o型密封圈)高功率单晶炉
德国高压Bridgman单晶生长炉1100度300bar
德国SciDre两区Bridgman单晶生长炉1100度低压
德国Bridgman单晶炉1900度(电阻加热)
德国SciDre激光高压光学浮区炉 LFZ紧凑型单晶炉
单晶炉自动喷砂系统
垂直梯度凝固法系统
物理气相传输系统
硅芯炉
区熔晶体生长系统
区熔晶体生长系统
区熔晶体生长系统
单晶炉
单晶炉
单晶炉
单晶炉
中科微电子 多晶炉DJL220S
中科微电子 单晶炉DJL210S
8英寸立式炉
碳化硅高温退火炉
电阻式碳化硅长晶炉