本图片来自深圳市矢量科学仪器有限公司提供的AP200/300 光刻系统,型号为AP200/300的VEECO半导体行业专用仪器设备,产地为美洲美国,属于品牌,参考价格为面议,公司还可为用户供应高品质的Plasma Process Cluster 多腔等离子体工艺系统、全新实验室型等离子清洗机等仪器。
深圳市矢量科学仪器有限公司是仪器信息网的银牌,合作关系长达2年,工商信息已通过人工核验,获得仪信通诚信认证,
深圳市矢量科学仪器有限公司客服电话:400-860-5168转5919,请放心选择!
查看 AP200/300 光刻系统 信息
同类推荐
看了有掩模光刻机的用户又看了
半导体光掩模光刻机
精密光学用镀膜系统
条形等离子清洁系统
高真空电子束蒸发薄膜沉积系统
NEXUS IBD-LDD 离子束沉积设备
高真空电子束及热阻蒸发薄膜沉积系统
SUSS投影扫描光刻机DSC300
离子束沉积设备
蒸发薄膜沉积系统
批量晶圆处理等离子系统
金属有机物化学气相沉积设备
高真空热阻蒸发薄膜沉积系统
超声波扫描显微镜
金属有机化学气相沉积
金属化学气相沉积MOCVD
全自动超声波扫描显微镜
高真空有机及热阻蒸发薄膜沉积系统
超声扫描显微镜
原子层沉积ALD
超高真空激光分子束外延薄膜沉积系统
高真空磁控溅射薄膜沉积系统
原子层沉积ALD
原子层沉积ALD
匀胶机
空间原子层沉积ALD
原子层沉积ALD
高真空磁控溅射薄膜沉积系统
原子层沉积ALD
原子层沉积ALD
原子层沉积ALD
iAS系列大面积曝光机
织雀™PL-3D 桌面式高精密3D光刻机
VPG 200 / VPG 400 有掩膜光刻机
ULTRA 激光掩模光刻机
VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻机
MA300 Gen3 掩模对准光刻机
SUSS投影扫描光刻机DSC300
AP200/300 光刻系统
日本JEOL电子束光刻机JBX-6300FS
日本JEOL电子束光刻机JBX-9500FS
VOYAGER 高性能电子束曝光系统
EBPG Plus 超高性能电子束光刻系统
德国 Raith 电子束光刻机 Pioneer Two
CRESTEC电子束光刻系统EBL 130KeV
CRESTEC电子束光刻系统EBL 50KeV
JEOL电子束光刻机系统EBL
Raith电子束光刻机EBL 30KeV
Raith 电子束光刻系统EBL 50KeV
德国Raith Voyager 新一代电子束光刻系统50KeV
Raith电子束纳米曝光机EBL 100KeV
POLOS 半自动光刻机8寸 德国
POLOS 光刻机 4寸德国
桌面微型紫外光刻机
直流汞短弧灯
OAI光刻机/紫外曝光机 (Mask Aligner)