本图片来自深圳市矢量科学仪器有限公司提供的金属有机化学气相沉积,型号为Propel HVM GaN 的VEECO半导体行业专用仪器设备,产地为美洲美国,属于品牌,参考价格为面议,公司还可为用户供应高品质的高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统、多功能刻蚀机等仪器。
深圳市矢量科学仪器有限公司是仪器信息网的银牌,合作关系长达2年,工商信息已通过人工核验,获得仪信通诚信认证,
深圳市矢量科学仪器有限公司客服电话:400-860-5168转5919,请放心选择!
查看 金属有机化学气相沉积 信息
同类推荐
看了化学气相沉积设备的用户又看了
半导体光掩模光刻机
精密光学用镀膜系统
金属化学气相沉积MOCVD
全自动超声波扫描显微镜
高真空有机及热阻蒸发薄膜沉积系统
超声扫描显微镜
原子层沉积ALD
超高真空激光分子束外延薄膜沉积系统
高真空磁控溅射薄膜沉积系统
原子层沉积ALD
原子层沉积ALD
匀胶机
空间原子层沉积ALD
原子层沉积ALD
高真空磁控溅射薄膜沉积系统
原子层沉积ALD
原子层沉积ALD
原子层沉积ALD
原子层沉积ALD
清洗设备
金属有机化学气相沉积MOCVD
匀胶机
磁控溅射薄膜沉积系统
匀胶机
MaskTrack Pro 掩膜版清洗系统
磁控溅射薄膜沉积系统
XBS200晶圆贴片机
匀胶机
高真空磁控溅射薄膜沉积系统
SiC分子外延系统
部件镀膜设备
汽车车灯溅射镀膜系统
8英寸等离子体增强化学气相沉积设备
8英寸电感耦合等离子体化学气相沉积设备
开盖等离子体沉积系统PECVD
ICP沉积系统
电感耦合等离子体化学气相沉积ICPCVD
等离子增强化学气相沉积PECVD
等离子增强化学气相沉积PECVD
等离子增强化学气相沉积PECVD
等离子增强化学气相沉积PECVD
金属有机化学气相沉积MOCVD
金属化学气相沉积MOCVD
金属有机化学气相沉积
金属有机物化学气相沉积设备
高真空等离子体增强化学气相薄膜沉积及热丝CVD系统
高真空等离子体增强化学气相薄膜沉积系统
高真空等离子体增强化学气相薄膜沉积系统
金属有机源气相沉积系统
化学气相沉积MOCVD
化合物半导体沉积系统
化合物半导体沉积系统
化合物半导体沉积系统
CCS系统
碳化硅沉积系统
ECOPIALC-100, LC-102化学气相沉积设备多少钱一个 典型采购用户详情了解
金属有机化学气相沉积系统(MOCVD)是什么 售后服务怎么样
ECOPIARTCVD化学气相沉积设备基本信息 使用亮点介绍
那诺-马斯特NPE-4000 (ICPM)化学气相沉积设备怎么样 生产厂商全面解析
那诺-马斯特NMC-3000化学气相沉积设备怎么样 有哪些特点
等离子体增强化学气相沉积系统(PECVD)是什么 厂商实力及地址简介
MicrophaseMPCNT-Basic化学气相沉积设备多少钱一台 生产厂商全面解析
PECVD+RIE等离子体增强化学气相沉积和反应离子刻蚀系统基本信息 查厂商选仪器看报价
ASSprayCVD-050化学气相沉积设备多少钱一个 使用亮点介绍
石墨烯制备CVD系统基本信息 使用亮点介绍
合肥科晶OTF -1200X-4- C4LVS化学气相沉积设备报价 厂商实力及地址简介
MicrophaseMPCVD-50化学气相沉积设备多少钱一台 生产厂商全面解析